北京航空航天大学邱天获国家专利权
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龙图腾网获悉北京航空航天大学申请的专利一种适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116398255B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310348844.4,技术领域涉及:F01D5/18;该发明授权一种适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构是由邱天;丁水汀;高自强;周煜;刘传凯;刘鹏;刘晓静;李果;庹浩天;郭腾跃设计研发完成,并于2023-04-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构在说明书摘要公布了:一种适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构,包括:冲击孔板,冲击孔板包括在前缘部形成的穿透该冲击孔板的冲击孔;气膜孔板,包括在其上表面形成的门墙结构,在气膜孔板的前缘部分形成前缘孔,在气膜孔板中部形成气膜孔,在气膜孔板的后缘部分形成后缘孔,气膜孔位于所述门墙结构之间;冲击节流腔,其由冲击孔板与气膜孔板结合后其之间的空间形成,该冲击节流腔的空间沿轴向由所述门墙结构分隔。
本发明授权一种适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构在权利要求书中公布了:1.一种适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构,其特征在于,多个所述高效冷却外环基元结构成阵列安装设置,形成涡轮外环,构成发动机中涡轮叶片周围的主流通道,适配主流压力及温度变化的高效冷却外环基元结构包括: 冲击孔板,冲击孔板包括在前缘部形成的穿透该冲击孔板的冲击孔; 气膜孔板,包括在其上表面沿轴向形成的门墙结构,在气膜孔板的前缘部分形成前缘孔,在气膜孔板中部形成气膜孔,在气膜孔板的后缘部分形成后缘孔,气膜孔位于所述门墙结构之间; 冲击节流腔,其由冲击孔板与气膜孔板结合后其之间的空间形成,该冲击节流腔的空间沿轴向由所述门墙结构分隔,形成沿轴向压力可控的多个分腔,每个分腔均有气膜流出主流,重新匹配轴向的气膜孔的进出口压比,为气膜孔提供可控的腔压及冷气流量; 其中,门,其成对地形成在所述气膜孔板的上表面,在气膜孔板的横向上两边的位置,在门之间形成让气流通过的缝隙; 墙,其形成在所述气膜孔板的上表面,在气膜孔板的横向上中间位置,在其横向上的两侧边留出让气流通过的缝隙; 其中所述门与墙在气膜孔板上沿轴向间隔地分布; 其中,前缘孔在气膜孔板的前缘部分水平向前地形成; 后缘孔在气膜孔板的后缘部分水平向后地形成。
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