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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116360217B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211633529.8，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法是由增永惠一;畠山润;渡边聪;船津显之;小竹正晃;福岛将大设计研发完成，并于2022-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，其能形成具有极高分辨率，LER小而矩形性优异且能形成显影负载的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含基础聚合物，该基础聚合物含有：包括含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、或包括含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物及包括含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔％以上。

本发明授权化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含被酸不稳定基团保护，因酸作用成为碱可溶性的基础聚合物， 该基础聚合物包括含有含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，或 包括含有含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，以及含有含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物， 所述基础聚合物中含有的聚合物中，不含有因曝光而产酸的重复单元， 该含苯酚性羟基的单元为下式A1表示的重复单元，苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元为下式A2表示的重复单元，该羧基受酸不稳定基团保护的单元为下式A3表示的重复单元， 该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔％以上， 式中，a为符合0≤a≤5+2c-b的整数，b为1～3的整数，c为0～2的整数， RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基， X1为单键、*-C＝O-O-或*-C＝O-NH-，*为和主链的碳原子间的原子键， A1为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，构成该饱和亚烃基的-CH2-的一部分亦可被-O-取代， R1为卤素原子、亦可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃羰氧基、亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、或亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃氧基， 式中，RA同前述， d为符合0≤d≤5+2f-e的整数，e为1～3的整数，f为0～2的整数， X2为单键、*-C＝O-O-或*-C＝O-NH-，*为和主链的碳原子间的原子键， A2为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，构成该饱和亚烃基的-CH2-的一部分亦可被-O-取代， R2为卤素原子、亦可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃羰氧基、亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、或亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃氧基， R3于e为1时是酸不稳定基团，e为2以上时是氢原子或酸不稳定基团，但至少一者为酸不稳定基团， 式中，RA同前述， X3为单键、亚苯基、亚萘基或*-C＝O-O-X3A-，X3A为亦可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～20的饱和亚烃基、或亚苯基或亚萘基，*为和主链的碳原子间的原子键， R4为酸不稳定基团。

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