罗门哈斯电子材料有限责任公司L-S·柯获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利光致抗蚀剂底层组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116300309B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211555124.7，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光致抗蚀剂底层组合物是由L-S·柯;A·查韦斯;山田晋太郎设计研发完成，并于2022-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本光致抗蚀剂底层组合物在说明书摘要公布了：一种形成图案的方法，该方法包括：在衬底上施加光致抗蚀剂底层组合物以提供光致抗蚀剂底层；在该光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层；将该光致抗蚀剂层图案化；以及将图案从该图案化的光致抗蚀剂层转移到该光致抗蚀剂底层。该光致抗蚀剂底层组合物包括包含如本文所描述的由式1表示的重复单元的聚合物、包含如本文所描述的由式2表示的取代基的化合物、以及溶剂。
本发明授权光致抗蚀剂底层组合物在权利要求书中公布了：1.一种形成图案的方法，所述方法包括： 在衬底上施加光致抗蚀剂底层组合物以提供光致抗蚀剂底层； 在所述光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层； 将所述光致抗蚀剂层图案化；以及 将图案从所述图案化的光致抗蚀剂层转移到所述光致抗蚀剂底层； 其中所述光致抗蚀剂底层组合物包括包含由式1A表示的重复单元的聚合物、包含由式2表示的取代基的化合物；以及溶剂； 其中在式1A中 A是CRC，其中RC是氢、羟基、任选取代的C1-6烷基、或任选取代的C1-6烷氧基； L是二价基团，其独立地包括任选取代的C1-4亚烷基、-O-、任选取代的具有一个或两个芳香族环的亚芳基、或其组合； 每个Z独立地是取代基，其中在式1A中，a是0或1，i是2或3； 其中，在式2中： R是取代或未取代的C1-4亚烷基； R1是氢或任选取代的C1-4烷基； *是与芳香族环体系Q的环碳的连接点，其中所述芳香族环体系Q是Ar1或Ar2-T-Ar3， 其中Ar1、Ar2和Ar3独立地包含具有4至14个环碳的取代或未取代的芳香族基团，以及 T是任选取代的C1-4亚烷基；以及 a是1至8的一个整数，c是1、2、或3，并且b+c是2或3。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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