思达尔科技(武汉)有限公司刘俊良获国家专利权
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龙图腾网获悉思达尔科技(武汉)有限公司申请的专利应用于硅光子结构的导光装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116263528B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111527973.7,技术领域涉及:G02B6/42;该发明授权应用于硅光子结构的导光装置是由刘俊良设计研发完成,并于2021-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本应用于硅光子结构的导光装置在说明书摘要公布了:本发明公开一种应用于硅光子结构的导光装置,其包括一光收发器以及一反射结构。反射结构设置在光收发器上,反射结构具有面向光收发器的一反射面,反射面用于反射在光收发器与硅光子结构的一波导结构之间传输的至少一光线。借由本发明的导光装置,能够省去了需要另外在槽孔中形成一独立的导光组件的繁杂工艺,并且缩小槽孔尺寸而增加硅晶圆上的可利用面积。
本发明授权应用于硅光子结构的导光装置在权利要求书中公布了:1.一种应用于硅光子结构的导光装置,其特征在于,所述导光装置包括: 一光收发器;以及 一反射结构,设置在所述光收发器上,所述反射结构具有面向所述光收发器的一反射面,所述反射面用于反射在所述光收发器与所述硅光子结构的一波导结构之间传输的至少一光线; 其中,所述硅光子结构还包括一硅基板,所述波导结构设置在所述硅基板中,所述硅基板的上表面形成一槽孔,所述槽孔具有一底部; 其中,所述反射结构伸入所述槽孔内以使所述反射面面向所述波导结构,且所述反射结构的底表面与所述槽孔的所述底部之间存在一距离; 其中,所述槽孔的宽度小于60μm。
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