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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备及其进气装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115681653B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110864551.2，技术领域涉及：F16L39/00；该发明授权半导体工艺设备及其进气装置是由徐刚设计研发完成，并于2021-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体工艺设备及其进气装置在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其进气装置。该进气装置包括：进气块组件及连接组件，进气块组件及连接组件均采用抗腐蚀的材质制成；进气块组件内形成有混气腔、输气通道及混气通道，进气块组件与工艺腔室的上盖密封连接，输气通道的进气口与混气腔连通，输气通道的出气口与工艺腔室连通；混气通道的多个进气口形成于进气块组件的外表面上，混气通道的出气口与混气腔连通；多个连接组件均设置于进气块组件上，并且多个连接组件与混气通道的多个进气口一一对应连通，分别用于与多个工艺气体供给源连接，以选择性向混气通道内通入或停止通入工艺气体。本申请实施例能够防止反应气体腐蚀而形成污染物，从而提高晶圆良率。

本发明授权半导体工艺设备及其进气装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备的进气装置，设置于所述半导体工艺设备的工艺腔室顶部，用于向所述工艺腔室内输入工艺气体，其特征在于，包括：进气块组件及连接组件，所述进气块组件及连接组件均采用抗腐蚀的材质制成； 所述进气块组件内形成有混气腔、输气通道及混气通道，所述进气块组件与所述工艺腔室的上盖密封连接，所述输气通道的进气口与所述混气腔连通，所述输气通道的出气口与所述工艺腔室连通；所述混气通道的多个进气口形成于进气块组件的外表面上，所述混气通道的出气口与所述混气腔连通； 多个所述连接组件均设置于所述进气块组件上，并且多个所述连接组件与所述混气通道的多个进气口一一对应连通，分别用于与多个工艺气体供给源连接，以选择性向所述混气通道内通入或停止通入工艺气体； 所述进气块组件包括有依次密封连接的第一进气块、第二进气块及第三进气块，所述第一进气块与所述工艺腔室的上盖密封连接； 所述输气通道形成于所述第一进气块及所述第二进气块内，所述混气腔形成于所述第二进气块及第三进气块之间；所述混气通道形成于所述第二进气块及第三进气块内。

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