三星SDI株式会社林栽范获国家专利权
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龙图腾网获悉三星SDI株式会社申请的专利硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114424122B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080065044.6，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法是由林栽范设计研发完成，并于2020-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及包含由化学式1表示的化合物和溶剂的硬掩膜组合物、包含该硬掩膜组合物的固化产物的硬掩膜层，以及使用该硬掩膜组合物的图案形成方法。在化学式1中，A、R1至R5以及n的定义如说明书中所述。[化学式1]
本发明授权硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种硬掩模组合物，其包含由化学式1表示的化合物和溶剂： [化学式1] 其中，在化学式1中， A是C6至C30芳香族部分， R1至R5各自独立地是氢、取代的或未取代的C6至C30芳基、取代的或未取代的C3至C30杂芳基或它们的组合，或由化学式3或化学式4表示的基团， 其中R1至R5中的至少两个是除氢之外的基团，并且其中所述至少两个的基团中的至少一个是由化学式3或化学式4表示的基团， 其中，在化学式3和化学式4中， X是取代的或未取代的C6至C30亚芳基， Y是取代的或未取代的C3至C30杂芳基；或用羟基、胺基、巯基、取代的或未取代的C1至C30烷氧基、取代的或未取代的C1至C30烷基硫醇基、取代的或未取代的C1至C20烷基胺基或它们的组合取代的C6至C30芳基， R6至R10各自独立地是氢、取代的或未取代的C6至C30芳基、取代的或未取代的C3至C30杂芳基或它们的组合， R6至R10中的至少一个是取代的或未取代的C3至C30含氮杂芳基；或用取代的或未取代的C1至C30烷氧基取代的C6至C30芳基，并且 表示与化学式1的连接点。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星SDI株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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