杭州微影智控科技有限公司刘俊获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州微影智控科技有限公司申请的专利一种掩膜版及压阻式压力传感器获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223650023U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520033712.7，技术领域涉及：G01L1/02；该实用新型一种掩膜版及压阻式压力传感器是由刘俊;丁金玲;刘建华设计研发完成，并于2025-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜版及压阻式压力传感器在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种掩膜版及压阻式压力传感器，涉及微电子机械系统领域，旨在提高压力传感器的线性度。掩膜版包括掩膜图案区，掩膜版用于制备压阻式压力传感器的腔体。掩膜图案区的形状为圆角矩形。本申请提供的掩膜版用于制备压阻式压力传感器的腔体，由于掩膜图案区的形状为圆角矩形，圆角的每一个点都属于平滑点，没有明显的拐点与转角，所以在通过刻蚀形成腔体的过程中，刻蚀气体不会在圆角处积聚，相对来说在掩膜图案区的每一个部分的刻蚀气体都较为均匀，因此刻蚀气体在横向扩散上的速率接近，所以得到的腔体的四条直边线性度较高。
本实用新型一种掩膜版及压阻式压力传感器在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括掩膜图案区，所述掩膜版用于制备压阻式压力传感器的腔体； 所述掩膜图案区的形状为圆角矩形。
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