苏州迈为科技股份有限公司;苏州迈正科技有限公司周剑获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州迈为科技股份有限公司;苏州迈正科技有限公司申请的专利一种真空薄膜沉积设备用载板获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223646635U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423316013.8,技术领域涉及:C23C16/458;该实用新型一种真空薄膜沉积设备用载板是由周剑;陈晨;刘亚南;张金富;孙健;王登志设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空薄膜沉积设备用载板在说明书摘要公布了:本申请涉及一种真空薄膜沉积设备用载板,包括:托盘,所述托盘包括多个用于承载待薄膜沉积基片的承载区,多个所述承载区呈阵列排布;每一所述承载区设有多个台阶部和镂空结构,所述台阶部用于放置待薄膜沉积基片,所述台阶部与所述待薄膜沉积基片的接触方式为点接触、线接触或面接触;所述镂空结构至少部分位于待薄膜沉积基片的下方。本申请的真空薄膜沉积设备用载板通过设置多个台阶部和多个镂空结构在待薄膜沉积基片的加工工艺过程中,还能够避免待薄膜沉积基片的碎片掉落至加热板以及真空设备的工艺腔内,进而对待薄膜沉积基片的加热性能产生影响以及造成真空设备损伤。
本实用新型一种真空薄膜沉积设备用载板在权利要求书中公布了:1.一种真空薄膜沉积设备用载板,其特征在于,包括: 托盘,所述托盘包括多个用于承载待薄膜沉积基片的承载区,多个所述承载区呈阵列排布; 每一所述承载区设有多个台阶部和镂空结构,所述台阶部用于放置待薄膜沉积基片,所述台阶部与所述待薄膜沉积基片的接触方式为点接触、线接触或面接触; 所述镂空结构位于所述待薄膜沉积基片的下方。
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