中锃半导体(深圳)有限公司谭志明获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网获悉中锃半导体(深圳)有限公司申请的专利一种半导体处理设备及其气体喷淋组件获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223646633U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520036476.4,技术领域涉及:C23C16/455;该实用新型一种半导体处理设备及其气体喷淋组件是由谭志明;林志恒设计研发完成,并于2025-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体处理设备及其气体喷淋组件在说明书摘要公布了:本申请涉及半导体处理技术领域,具体涉及一种半导体处理设备及其气体喷淋组件。气体喷淋组件中的第一气体间隔与进气孔导通,气体通过进气孔能够进入第一气体间隔,第一气体间隔中的气体通过第一匀气盘上的第一喷孔进入第二气体间隔,在第一喷孔的作用下,使气体在垂直于第一匀气盘厚度方向上散开,第二气体间隔中的气体通过第二喷孔喷出,经过第二喷孔再次分布气体后,气体能够更均匀进入半导体处理设备。由于各第一喷孔沿所述第一匀气盘厚度方向在第二匀气盘上的投影均与第二喷孔错开,使气体通过第一喷孔后通过弯曲的流动路径才能从第二喷孔喷出,增加了气体的横向扩散能力,使气体经过第二喷孔喷出后分布更均匀。
本实用新型一种半导体处理设备及其气体喷淋组件在权利要求书中公布了:1.一种气体喷淋组件,所述气体喷淋组件用于半导体处理设备,其特征在于,包括: 进气盖,所述进气盖具有供气体进入的进气孔; 第一匀气盘,所述第一匀气盘具有至少两个第一喷孔; 以及第二匀气盘,所述第二匀气盘具有至少两个第二喷孔; 所述第一匀气盘与所述第二匀气盘在所述第一匀气盘厚度方向上布置,所述第一匀气盘处于所述第二匀气盘朝向所述进气孔的一侧;所述第一匀气盘背向所述第二匀气盘的一侧具有第一气体间隔,所述第一气体间隔导通所述进气孔与各所述第一喷孔;所述第一匀气盘朝向所述第二匀气盘的一侧具有第二气体间隔,所述第二气体间隔将各所述第一喷孔与各所述第二喷孔导通;各所述第一喷孔沿所述第一匀气盘厚度方向在所述第二匀气盘上的投影均与所述第二喷孔错开。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中锃半导体(深圳)有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区市花路32号能健恒A栋六层601室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励