苏州国微纳半导体设备有限公司庞浩楠获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州国微纳半导体设备有限公司申请的专利一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223641556U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422779461.5，技术领域涉及：B01D47/06；该实用新型一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统是由庞浩楠;陈以国;陈睿;孟晓燕设计研发完成，并于2024-11-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统，包括反应腔排气管，所述反应腔排气管与气动球阀一端连通，所述气动球阀另一端与第一管道一端连通，所述第一管道另一端与循环过滤装置连通，所述循环过滤装置与手动球阀一端连通，所述手动球阀另一端与第二管道一端连通，所述第二管道另一端与角阀一端连通，所述角阀另一端与真空泵连通。本实用新型提供的一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统有效解决了现有的半导体真空镀膜设备是真空泵需要一直处于工作状态，从而较为耗能，对于温度高的废弃无法做到冷却，从而影响其后续管路及真空元器件，且对于真空排气中的废气杂质净化效果较差的技术问题。
本实用新型一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体真空镀膜设备的真空排气系统，包括反应腔排气管1，其特征在于：所述反应腔排气管1与气动球阀5一端连通，所述气动球阀5另一端与第一管道一端连通，所述第一管道另一端与循环过滤装置7连通，所述循环过滤装置7与手动球阀8一端连通，所述手动球阀8另一端与第二管道一端连通，所述第二管道另一端与角阀9一端连通，所述角阀9另一端与真空泵连通。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人苏州国微纳半导体设备有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市高新区通安镇华金路225号5幢；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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