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龙图腾网获悉南通华隆微电子股份有限公司申请的专利结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120807524B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511308411.1，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统是由郑剑华;苏建国;张元元;孙彬;朱建设计研发完成，并于2025-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统，涉及半导体技术领域。所述方法包括：采集目标晶圆的目标表面图像，并进行特征提取，生成目标点阵几何结构；随机提取第一数量的原子点，获得K个定位点阵几何结构；对损失程度进行分析，并进行迭代寻优，生成目标定位点阵几何结构；获得目标检测定位图像；进行定位偏移识别，获得偏移识别结果；对电动位移台进行移动，当偏移识别结果满足预设要求时，获得目标量测结果；利用缺陷识别单元对目标量测结果进行分析，获得所述目标晶圆的目标检测结果。解决了传统半导体晶圆缺陷检测中定位精度不足导致检测效率和准确性较低的技术问题，通过优化晶圆定位，达到了提高检测效率和准确性的技术效果。

本发明授权结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.结合反馈调节的缺陷自适应检测方法，其特征在于，所述方法包括： 采集目标晶圆的目标表面图像，并将所述目标表面图像输入结构特征提取网络层中进行特征提取，生成所述目标晶圆的目标点阵几何结构； 从所述目标点阵几何结构中多次随机提取第一数量的原子点，根据提取的原子点分布位置，获得K个定位点阵几何结构； 利用损失量分析函数对所述K个定位点阵几何结构和目标点阵几何结构之间的损失程度进行分析，并根据分析结果对所述K个定位点阵几何结构进行迭代寻优，生成目标定位点阵几何结构，其中，所述目标定位点阵几何结构包括多个定位原子点和多个定位坐标； 将所述目标定位点阵几何结构存储至视觉对准单元中，并利用机械臂将放置于取样台上的目标晶圆转移至电动位移台的检测平台上，利用所述视觉对准单元中的光学摄像头对所述目标晶圆进行图像采集，获得目标检测定位图像； 基于所述多个定位坐标提取所述目标检测定位图像中的多个目标检测定位原子点，根据所述多个目标检测定位原子点和所述多个定位原子点进行定位偏移识别，获得偏移识别结果，其中，所述偏移识别结果包括目标偏移量和目标偏移方向； 将所述目标偏移量和目标偏移方向传输至反馈控制单元，利用所述反馈控制单元对所述电动位移台进行移动，当所述偏移识别结果满足预设要求时，调用光学轮廓仪对定位完成的所述目标晶圆进行3D线光谱量测，获得目标量测结果； 利用缺陷识别单元对所述目标量测结果进行分析，获得所述目标晶圆的目标检测结果。

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