飞测思凯浦(上海)半导体科技有限公司陈鲁获国家专利权
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龙图腾网获悉飞测思凯浦(上海)半导体科技有限公司申请的专利一种光学检测装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120028345B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510051809.5,技术领域涉及:G01N21/95;该发明授权一种光学检测装置是由陈鲁;姜来;孟立春;刘正涛;杨乐;胡诗铭;张鹏斌设计研发完成,并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学检测装置在说明书摘要公布了:本申请提供的光学检测装置,检焦光束经第一掩膜进入反射件,反射件的周围对入射的检焦光束进行反射,再经物镜成像在待检测晶圆表面,待检测晶圆将像进行反射再经物镜、反射件进入分束镜,经所述分束镜反射的像由所述第一探测单元获取,经分束镜透射的像进入所述第二掩膜,被第二掩膜透射的光束被第二探测单元获取;照明光束透过反射件的镂空位置以生成中间像,中间像经过物镜成像在待检测晶圆表面,再经所述物镜由所述成像单元获取,本申请通过在光路中使用特殊形状或位置的反射件,使得照明光束和检焦光束为同一波段,由于成像光束与聚焦光束都会经过物镜,即物镜仅使用一个波段,且对其工作距离无要求,降低了物镜设计、加工难度与制造成本。
本发明授权一种光学检测装置在权利要求书中公布了:1.一种光学检测装置,其特征在于,包括: 自动聚焦系统100,所述自动聚焦系统100包括光源模块110、第一掩膜7、反射件10、物镜13、分束镜16、第二掩膜17、第一探测单元120及第二探测单元130,所述光源模块110用于出射聚焦光束,所述反射件10中间镂空; 检测成像系统200,所述检测成像系统200包括照明光源22、所述物镜13及成像单元210,所述照明光源22用于出射照明光束,所述聚焦光束与所述照明光束的波长相同; 所述聚焦光束经所述第一掩膜7进入所述反射件10,所述反射件10的周围对入射的聚焦光束进行反射,再经所述物镜13成像在待检测晶圆14表面,所述待检测晶圆14表面将像进行反射再经所述物镜13、所述反射件10进入所述分束镜16,经所述分束镜16反射的像由所述第一探测单元120获取,经所述分束镜16透射的像进入所述第二掩膜17,被所述第二掩膜17透射的光束被所述第二探测单元130获取; 所述照明光束透过所述反射件10的镂空位置以生成中间像,所述中间像经过所述物镜13成像在待检测晶圆14表面,照明待检测区域,再经所述物镜13由所述成像单元210获取; 在所述聚焦光束至所述第一掩膜7的光路中,还设置有孔径光阑以对进入所述物镜13光瞳的光束进行遮挡,所述孔径光阑为形状固定的半圆或小孔或矩形且呈对称分布,所述孔径光阑的对称轴经过所述光瞳中心与所述第一掩膜7的周期变化方向垂直; 所述孔径光阑的位置还设有光开关,所述光开关可周期性对所述孔径光阑进行遮挡,且同一时间只遮挡所述孔径光阑的对称结构中的一个,使得进入所述物镜13光瞳的光束仅位于所述物镜13光瞳的一侧,并从该侧进入所述物镜13的光束聚焦在所述待检测晶圆14表面,并从所述物镜13的另一侧沿原路返回; 所述第二探测单元130包括第二汇聚镜组18及第二探测器19,由待检测晶圆14表面反射回来的光束将所述第一掩膜7的像重叠在所述第二掩膜17表面,此时由所述待检测晶圆14反射回来的光束经所述第二掩膜17后由所述第二探测单元130获取。
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