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龙图腾网获悉昆明理工大学;云南贵金属实验室有限公司申请的专利一种用于CH4氧化的高温稳定催化剂及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119838610B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510054237.6，技术领域涉及：B01J23/89；该发明授权一种用于CH4氧化的高温稳定催化剂及其制备方法是由刘意春;陈俊;杨星霞;闻明;罗圆;李凤仙;易健宏设计研发完成，并于2025-01-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于CH4氧化的高温稳定催化剂及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种用于CH4氧化的高温稳定催化剂及其制备方法，属于催化剂技术领域，包括以下步骤：以SiO2纳米球为基体，通过浸渍法引入过渡金属Ni，形成表面均匀覆盖薄层NiO的核壳结构复合载体SiO2‑NiO；然后通过浸渍法将Pd负载于所述复合载体SiO2‑NiO上，获得负载型钯基催化剂SiO2‑NiO‑Pd，即高温稳定催化剂。该催化剂可用于高温甲烷催化燃烧反应，并具有杰出的催化活性，甲烷转化率可达到100％。

本发明授权一种用于CH4氧化的高温稳定催化剂及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种在CH4完全氧化反应中的高温稳定催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 以SiO2纳米球为基体，通过浸渍法引入过渡金属Ni，形成表面均匀覆盖薄层NiO的核壳结构复合载体SiO2‑NiO；然后通过浸渍法将Pd负载于所述复合载体SiO2‑NiO上，获得负载型钯基催化剂SiO2‑NiO‑Pd，即高温稳定催化剂； 所述CH4完全氧化反应的温度区间为100‑550℃； 所述SiO2‑NiO‑Pd包括新鲜态SiO2‑NiO‑Pd‑F和老化态SiO2‑NiO‑Pd‑A； 所述新鲜态SiO2‑NiO‑Pd‑F的具体制备步骤包括：将所述复合载体SiO2‑NiO与去离子水混合，搅拌，加入钯源，调节pH至5‑6，搅拌至水分蒸发后干燥，在第一温度下煅烧，得到新鲜态SiO2‑NiO‑Pd‑F；所述钯源的加入量为所述复合载体SiO2‑NiO质量的1%；所述干燥的条件为：在100‑120℃下干燥12h；在所述第一温度下煅烧的条件为：在550‑570℃下焙烧3h； 所述老化态SiO2‑NiO‑Pd‑A的具体制备步骤包括：将所述新鲜态SiO2‑NiO‑Pd‑F继续在第二温度下煅烧，得到老化态SiO2‑NiO‑Pd‑A；所述第二温度比第一温度高180‑320℃；在所述第二温度下继续煅烧的条件为：在850‑870℃下焙烧25h。

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