拓荆科技(上海)有限公司刘宇泽获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利液态蒸发源及其输出气压的控制方法及薄膜沉积装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119776799B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411901159.0，技术领域涉及：C23C16/448；该发明授权液态蒸发源及其输出气压的控制方法及薄膜沉积装置是由刘宇泽;齐海军;苏耀宇;卜繁博;李晶晶设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本液态蒸发源及其输出气压的控制方法及薄膜沉积装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种液态蒸发源及其输出气压的控制方法，以及一种薄膜沉积装置。所述液态蒸发源包括：罐体，包括出气口，用于容纳液态反应物及其蒸汽，并经由所述出气口输出所述液态反应物的蒸汽；以及气压控制组件，包括多圈加热带、液位传感器及控制器，其中，所述多圈加热带分别缠绕在所述罐体外围的不同高度，所述控制器根据所述液位传感器采集的液位高度，调节所述液位高度以上的至少一圈第一加热带的温度，以将所述出气口的实际输出气压控制在预设的目标输出气压。
本发明授权液态蒸发源及其输出气压的控制方法及薄膜沉积装置在权利要求书中公布了：1. 一种液态蒸发源，其特征在于，包括： 罐体，包括出气口，用于容纳液态反应物及其蒸汽，并经由所述出气口输出所述液态反应物的蒸汽；以及气压控制组件，包括多圈加热带、液位传感器、压力规及控制器，其中，所述多圈加热带分别缠绕在所述罐体外围的不同高度，所述控制器被配置为：根据所述液位传感器采集的液位高度，确定所述液位高度以上的所述至少一圈第一加热带，并确定所述液位高度以上的蒸汽体积，根据所述蒸汽体积、所述目标输出气压，以及所述出气口在一个出气窗口的单次出气质量，确定所述至少一圈第一加热带的第一目标温度，将所述至少一圈第一加热带调节到所述第一目标温度，以将所述出气口在一个所述出气窗口的实际输出气压控制在所述目标输出气压。
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