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北京理工大学李弘恺获国家专利权

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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119665796B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411927657.2,技术领域涉及:G01B7/06;该发明授权一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法是由李弘恺;陈明尚;张彤设计研发完成,并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。

一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法,通过计算提离高度波动对输出电压的影响,量化提离波动造成的厚度误差大小,建立厚度误差与被测膜厚和提离波动的对应关系;在此基础上,本发明面向微纳金属薄膜厚度检测过程,以提离基准和提离波动为主要影响参数,根据上述的对应关系,可高精度快速计算任意提离波动下的厚度误差,以此在实践应用中有效评估不同提离基准和提离波动所造成的厚度测量误差。

本发明授权一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法在权利要求书中公布了:1.一种量化提离波动对电涡流式金属膜厚测量误差的方法,其特征在于,包括以下步骤: S1:设定不同的提离基准和相应的提离波动幅度,并确定每一提离基准下电涡流检测线圈的参数最优值; S2:对于每一提离基准,获取各提离波动幅度下电涡流传感器对测量厚度范围内的输出电压变化量序列,其中,输出电压变化量序列获取步骤为: 在当前提离基准下,利用具有最优线圈参数的电涡流传感器测量被测薄膜的厚度,得到各薄膜厚度对应的输出电压基准值;然后引入多种幅度的提离波动,依次得到每种提离波动幅度下电涡流传感器对量程内各薄膜厚度测量的最大输出电压变化量;将各提离波动幅度作用下的最大输出电压变化量组成当前提离基准下对应薄膜厚度的输出电压变化量序列; S3:根据各提离基准下各薄膜厚度对应的输出电压变化量序列分别获取各提离波动幅度下的厚度误差序列; S4:基于不同提离基准下的厚度误差序列、厚度序列以及各提离波动幅度进行对应关系拟合,得到厚度误差、厚度以及提离波动幅度之间的函数关系; S5:根据所述函数关系,即可在实际测量过程中,根据当前薄膜厚度和提离波动幅度,计算被测薄膜受该提离波动幅度影响下的厚度测量误差。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京理工大学,其通讯地址为:100081 北京市海淀区中关村南大街5号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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