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龙图腾网获悉浙江盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利真空吸附装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119458180B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411619011.8，技术领域涉及：B25B11/00；该发明授权真空吸附装置是由祝军;祝建敏;陈东设计研发完成，并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空吸附装置在说明书摘要公布了：本申请涉及硅片加工技术领域，并公开了一种真空吸附装置，包括，吸附盘，吸附盘沿第一方向一侧的表面设置有若干条吸附槽，吸附槽朝外一侧设置有开口；传输腔体，传输腔体位于吸附盘内，传输腔体的第一端与吸附槽连通，传输腔体的第二端与真空发生装置连通；切换组件、传动组件，切换组件位于传输腔体内，传输腔体包括上腔体与下腔体，上腔体与吸附槽连通，下腔体与真空发生装置连通，传动组件与切换组件传动连接，以驱动切换组件在传输腔体内运动，在封堵状态下，上腔体与下腔体在切换组件的封堵下形成断开；在连通状态下，上腔体与下腔体在切换组件的连通下形成相连。提供一种可自动实现吸附槽的封堵及连通的真空吸附装置。

本发明授权真空吸附装置在权利要求书中公布了：1.一种真空吸附装置，其特征在于，所述真空吸附装置包括，吸附盘，所述吸附盘沿第一方向一侧的表面设置有若干条吸附槽，所述吸附槽朝外一侧设置有开口； 传输腔体，所述传输腔体位于所述吸附盘内，所述传输腔体的第一端与所述吸附槽连通，所述传输腔体的第二端与真空发生装置连通； 切换组件、传动组件，所述切换组件位于所述传输腔体内，所述传输腔体包括上腔体与下腔体，所述上腔体与所述吸附槽连通，所述下腔体与所述真空发生装置连通，所述传动组件与所述切换组件传动连接，以驱动所述切换组件在所述传输腔体内运动，并形成所述吸附槽的封堵状态及连通状态；其中，在所述封堵状态下，所述上腔体与所述下腔体在所述切换组件的封堵下形成断开； 在所述连通状态下，所述上腔体与所述下腔体在所述切换组件的连通下形成相连； 所述传动组件包括，驱动件、传动件，所述驱动件与所述传动件传动连接，所述切换组件位于所述驱动件一侧，所述驱动件用于驱动所述传动件旋转运动，所述传动件将旋转运动转换成所述切换组件在所述传输腔体内沿第一方向的直线运动，以形成所述封堵状态及连通状态的切换； 所述传动件包括，传动杆，所述传动杆上设置有转动输入结构，所述传动杆上沿第二方向间隔设置有若个转动环，所述转动环圆周方向上的外表面为驱动面，所述转动环上由所述驱动面出发沿径向向内凹陷形成第二驱动槽，所述第二驱动槽朝外设置有开口，各所述转动环的所述第二驱动槽沿所述第二方向在所述传动杆的底面的投影互不相交；其中，所述切换组件与所述第二驱动槽相抵时形成所述连通状态，所述切换组件与驱动面相抵时形成所述封堵状态。

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