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龙图腾网获悉合光光掩模科技(安徽)有限公司申请的专利一种掩模板的制作方法及掩模板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119310793B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411595781.3，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权一种掩模板的制作方法及掩模板是由李勇设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模板的制作方法及掩模板在说明书摘要公布了：本公开提供了一种掩模板的制作方法及掩模板，制作方法包括以下步骤：提供堆叠结构，堆叠结构包括堆叠设置的透明基底材料层、相移材料层和遮光材料层；去除部分透明基底材料层、部分相移材料层和部分遮光材料层，以将第一图案转移至透明基底材料层、相移材料层和遮光材料层，得到第一中间体，第一图案在透明基底材料层形成凹槽；对第一中间体的凹槽执行凹槽深度控制过程，得到第二中间体；去除第二中间体的部分遮光材料层，以将第二图案转移至遮光材料层，得到第三中间体；对第三中间体的相移材料层进行高度控制过程，得到掩模板。本发明的制作方法可对相移度和透过率检测不合格的掩模板及时重新加工校正，有效保证了产品质量和出品效率。

本发明授权一种掩模板的制作方法及掩模板在权利要求书中公布了：1.一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括： 提供堆叠结构，所述堆叠结构包括堆叠设置的透明基底材料层、相移材料层和遮光材料层； 去除部分所述透明基底材料层、部分所述相移材料层和部分所述遮光材料层，以将第一图案转移至所述透明基底材料层、所述相移材料层和所述遮光材料层，得到第一中间体，所述第一图案在所述透明基底材料层形成凹槽； 对所述第一中间体的所述凹槽执行凹槽深度控制过程，得到第二中间体； 去除所述第二中间体的部分所述遮光材料层，以将第二图案转移至所述遮光材料层，得到第三中间体； 对所述第三中间体的所述相移材料层进行高度控制过程，得到所述掩模板； 所述对所述第一中间体的所述凹槽执行凹槽深度控制过程，包括： 检测所述凹槽的凹槽深度； 若所述凹槽深度未满足目标深度尺寸要求，继续去除部分所述透明基底材料层以改变所述凹槽的凹槽深度，直至所述凹槽的凹槽深度满足所述目标深度尺寸要求； 所述对所述第三中间体的所述相移材料层进行高度控制过程，包括： 检测所述第三中间体中的所述相移材料层的厚度； 基于所述第三中间体中的所述相移材料层的厚度以及目标厚度，确定所述相移材料层的目标去除厚度； 去除所述目标去除厚度的所述相移材料层。

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