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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利微纳结构面形测量系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118687503B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310294548.0，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权微纳结构面形测量系统和方法是由胡摇;林超;郝群设计研发完成，并于2023-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本微纳结构面形测量系统和方法在说明书摘要公布了：微纳结构面形测量系统和方法，解决了傅里叶叠层成像测量结果不准确的问题，实现了对大横向尺寸、微纳结构面形高分辨率测量。系统包括：移相干涉模块、傅里叶叠层成像模块，其中两模块共用：第一激光器101，第二激光器102，第一分光棱镜103，显微物镜104，第一针孔105，准直透镜106，第一反射镜107，第二分光棱镜108，待测试件109，第一4f透镜113、二维位移台114、第二针孔115、第二4f透镜116，CMOS接收器117；移相干涉模块额外包括：压电陶瓷112及参考镜111；傅里叶叠层成像模块额外包括：挡板110。

本发明授权微纳结构面形测量系统和方法在权利要求书中公布了：1.微纳结构面形测量系统，其特征在于：其包括：移相干涉模块、傅里叶叠层成像模块，其中两模块共用：第一激光器101，第二激光器102，第一分光棱镜103，显微物镜104，第一针孔105，准直透镜106，第一反射镜107，第二分光棱镜108，待测试件109，第一4f透镜113、二维位移台114、第二针孔115、第二4f透镜116，CMOS接收器117；移相干涉模块额外包括：压电陶瓷112及参考镜111；傅里叶叠层成像模块额外包括：挡板110； 移相干涉模块先后利用第一激光器与第二激光器垂直于第一分光棱镜入射，进入同一光路，经过滤波准直后，经第二分光棱镜分光，一束光到达待测试件后反射，另一束光到达带压电陶瓷的参考镜后反射，两束光回到第二分光棱镜，经过第一4f透镜、第二4f透镜，在CMOS接收器处形成干涉条纹，完成两个波长下相位测量； 傅里叶叠层成像模块同样先后利用双波长激光，使用挡板遮挡参考光路，只用其中照射待测试件的反射光，经过第一4f透镜、第二4f透镜，并在第一4f透镜、第二4f透镜频谱位置扫描孔径，线性逐行采集待测物体对应的子孔径下低分辨率图像，并将干涉模块得到的相位及低分辨率图像代入全变差正则化傅里叶叠层成像算法，完成高分辨率图像重建及相位恢复；最后进行双波长合成及降噪，完成面形测量。

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