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龙图腾网获悉安徽紫金新材料科技股份有限公司申请的专利一种多层可回收超高阻隔复合膜及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118683146B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410824325.5，技术领域涉及：B32B27/30；该发明授权一种多层可回收超高阻隔复合膜及其制备工艺是由康犇;朱武超;种丽娟;朱雷;徐芳设计研发完成，并于2024-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多层可回收超高阻隔复合膜及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及可回收高阻隔复合膜研发技术领域，且公开了一种多层可回收超高阻隔复合膜及其制备工艺，包括：制备羧基官能团化溴化铵插层剂；利用离子交换反应及静电吸附作用，通过羧基官能团化溴化铵插层剂对蒙脱土纳米片进行插层改性，制备得到插层改性型蒙脱土；基于酯化反应机理，利用插层改性型蒙脱土对乙烯‑乙烯醇共聚物进行改性处理，制备得到蒙脱土改性型乙烯‑乙烯醇共聚物；以蒙脱土改性型乙烯‑乙烯醇共聚物为原料生成阻隔层，采用多层共挤和流延成膜工艺，制备得到复合膜。本发明提供了一种制备复合膜的工艺，并且制备得到了一种具有优异阻隔性能及力学性能的多层超高阻隔复合膜，其具有材质一体化的特点、可实现回收利用功能。

本发明授权一种多层可回收超高阻隔复合膜及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种多层可回收超高阻隔复合膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一：制备羧基官能团化溴化铵插层剂，所述插层剂为插层剂Ⅰ、插层剂Ⅱ、插层剂Ⅲ、插层剂Ⅳ、插层剂Ⅴ中的一种； 插层剂Ⅰ的化学结构为： ； 插层剂Ⅱ的化学结构为： ； 插层剂Ⅲ的化学结构为： ； 插层剂Ⅳ的化学结构为： ； 插层剂Ⅴ的化学结构为： ； 步骤二：利用离子交换反应及静电吸附作用，通过羧基官能团化溴化铵插层剂对钠基蒙脱土纳米片进行插层改性，制备得到插层改性型蒙脱土； 步骤三：基于酯化反应机理，利用插层改性型蒙脱土对乙烯‑乙烯醇共聚物进行改性处理，制备得到蒙脱土改性型乙烯‑乙烯醇共聚物； 步骤四：设置十一层共挤膜，采用多层共挤和流延成膜工艺，制备得到多层可回收超高阻隔复合膜； 十一层共挤膜的结构为：LDPE层PE‑g‑MAH层EVOH层PE‑g‑MAH层蒙脱土改性型EVOH层蒙脱土改性型EVOH层蒙脱土改性型EVOH层PE‑g‑MAH层EVOH层PE‑g‑MAH层LDPE层； 其中，蒙脱土改性型EVOH层以蒙脱土改性型乙烯‑乙烯醇共聚物为原料制得。

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