杭州德烯科技集团有限公司彭蠡获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州德烯科技集团有限公司申请的专利一种独立自支撑石墨烯膜作为重离子加速器碳剥离膜的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117945396B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310969578.7，技术领域涉及：C01B32/19；该发明授权一种独立自支撑石墨烯膜作为重离子加速器碳剥离膜的应用是由彭蠡;罗诗雨;韩占坡;高超设计研发完成，并于2023-08-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种独立自支撑石墨烯膜作为重离子加速器碳剥离膜的应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种独立自支撑石墨烯膜作为重离子加速器碳剥离膜的应用。所述石墨烯膜的IDIG＜0.01，AB结构含量在90％以上。这种结构使得碳膜具有高导电导热，良好的机械性能和柔性。高电子含量和长载流子总持续时间让粒子从膜原子中更易俘获电子使粒子电荷态发生改变，同时产生的热易被碳膜导出，防止中心过热使碳膜卷曲撕裂，而被破坏。良好的力学性质保证了碳膜使用过程中不易被外力破坏平整度和形貌，保证了较长的使用寿命。
本发明授权一种独立自支撑石墨烯膜作为重离子加速器碳剥离膜的应用在权利要求书中公布了：1.一种独立自支撑石墨烯膜作为重离子加速器碳剥离膜的应用，其特征在于，所述石墨烯膜的IDIG＜0.01，AB结构含量在90%以上；所述石墨烯膜通过以下方法制备得到： a1将氧化石墨烯配制成浓度为0.5‑10 ugmL氧化石墨烯水溶液，以氧化铝AAO为基底抽滤成膜； a2将AAO膜上的氧化石墨烯膜用85℃氢碘酸高温熏蒸还原12h，得到还原氧化石墨烯膜； a3将樟脑加热升华，均匀吸附在还原氧化石墨烯膜表面，之后在室温下冷却，还原氧化石墨烯膜将自动脱离AAO膜； a4将上述得到的还原氧化石墨烯膜挥发掉樟脑，得到独立自支撑的还原氧化石墨烯膜；高温烧结后修复缺陷，得到厚度小于等于50 nm的石墨烯膜。
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