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龙图腾网获悉浙江盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利一种硅电极清洗设备及清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117900185B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410321660.3，技术领域涉及：B08B3/02；该发明授权一种硅电极清洗设备及清洗方法是由范明明;祝建敏;郭立华设计研发完成，并于2024-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅电极清洗设备及清洗方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅电极清洗设备及清洗方法，包括机体，机体内设有用于夹紧硅电极的夹紧机构和冲洗喷头，所述机体内设有转动机构，所述转动机构包括与机体转动连接的转轴、固设于转轴上的托盘、以及与托盘转动连接的转盘，所述夹紧机构设置于转盘上，所述冲洗喷头位于转盘的上侧。通过夹紧机构将硅电极夹紧在转盘上，通过托盘的转动，使得转盘倾斜，同时能够使硅电极也发生倾斜，在冲洗的过程中，水流顺着斜面将杂质颗粒带走，防止颗粒残留在硅电极表面；同时也能更容易清洗硅电极孔的内壁；再通过转盘的转动，带动硅电极转动，便于冲洗喷头彻底清洗硅电极的每个位置。

本发明授权一种硅电极清洗设备及清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种硅电极清洗设备，包括机体1，机体1内设有用于夹紧硅电极的夹紧机构34和冲洗喷头2，其特征在于，所述机体1内设有转动机构3，所述转动机构3包括与机体1转动连接的转轴321、固设于转轴321上的托盘32、以及与托盘32转动连接的转盘33，所述夹紧机构34设置于转盘33上，所述冲洗喷头2位于转盘33的上侧； 所述转动机构3还包括固设于机体1上的底座31、与底座31滑动连接的推块36，所述托盘32的底部设有凹弧形槽320，所述推块36的顶部与凹弧形槽320的顶部内壁抵接； 所述推块36的数量为两个，两个推块36沿同一直线同向滑动，且两个推块36分别位于转轴321的两侧； 所述转动机构3还包括固设于托盘32上的电机37，所述转盘33固设于电机37的输出端； 所述夹紧机构34包括若干个固设于转盘33上的周向分布的固定块341、与固定块341滑动连接的第一滑块342、以及固设于第一滑块342上的用于夹紧硅电极的夹紧块343，所述第一滑块342沿转盘33的径向方向滑动。

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