广东气派科技有限公司齐思恒获国家专利权
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龙图腾网获悉广东气派科技有限公司申请的专利一种半导体测试转塔机分离吸座结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223632480U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520016387.3,技术领域涉及:B65G47/24;该实用新型一种半导体测试转塔机分离吸座结构是由齐思恒;陆建学;孙林;虞骐睿;谭姗姗;喻安东设计研发完成,并于2025-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体测试转塔机分离吸座结构在说明书摘要公布了:本实用新型公开一种半导体测试转塔机分离吸座结构,包括基座,以及凸设于基座上表面的第一定位凸台和第二定位凸台,第一定位凸台设于第二定位凸台的前侧,第一定位凸台的上表面形成有第一定位平面,第一定位平面凹设有用于吸附器件的底部的吸附孔,第二定位凸台高于第一定位凸台,第二定位凸台的前侧壁形成有第二定位平面,第二定位平面凹设有可供器件一端的残留水口伸入的避让槽,避让槽的上端向上贯穿第二定位凸台的上表面,本实用新型采用避位槽来避开器件上的残留水口,使吸附孔能够完全吸住器件的底部,对器件定位稳定,防止器件掉落。
本实用新型一种半导体测试转塔机分离吸座结构在权利要求书中公布了:1.一种半导体测试转塔机分离吸座结构,其特征在于,包括基座,以及凸设于基座上表面的第一定位凸台和第二定位凸台; 所述第一定位凸台设于第二定位凸台的前侧,所述第一定位凸台的上表面形成有第一定位平面,所述第一定位平面凹设有用于吸附器件的底部的吸附孔,所述第二定位凸台高于第一定位凸台,所述第二定位凸台的前侧壁形成有第二定位平面,所述第二定位平面凹设有可供器件一端的残留水口伸入的避让槽,所述避让槽的上端向上贯穿第二定位凸台的上表面。
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