台湾积体电路制造股份有限公司余治宽获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利半导体结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223600259U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422290597.X,技术领域涉及:H10F39/18;该实用新型半导体结构是由余治宽;许文义;洪丰基;陈信宏;刘人诚;杨敦年设计研发完成,并于2024-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体结构在说明书摘要公布了:一种半导体结构,其中围绕隔离结构的p型掺杂区域在像素阵列的像素传感器之间提供额外的电隔离。结果,减少了从一个像素传感器的浮动节点到另一个像素传感器的电流泄漏。因此,暗电流可被减少,并提高像素阵列的效能。另外,可以减少隔离结构中捕获的电子引起的像素杂讯。
本实用新型半导体结构在权利要求书中公布了:1.一种半导体结构,其特征在于,包括: 光电二极管,位在基板中; 浮动节点,包括n型掺杂区; 隔离结构,围绕所述光电二极管;以及 p型掺杂区,位于所述浮动节点的所述n型掺杂区与所述隔离结构之间,以从所述隔离结构吸收多余电荷。
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