光颉科技股份有限公司陈尚仁获国家专利权
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龙图腾网获悉光颉科技股份有限公司申请的专利耐电性薄膜电阻结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223598484U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422904247.8，技术领域涉及：H01C7/00；该实用新型耐电性薄膜电阻结构是由陈尚仁;卢契佑设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本耐电性薄膜电阻结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种耐电性薄膜电阻结构，耐电性薄膜电阻结构包含基板、合金交界层、电阻层、导体层、保护层及电镀层，能够提升电阻耐电性、散热能力与结合力。
本实用新型耐电性薄膜电阻结构在权利要求书中公布了：1.一种耐电性薄膜电阻结构，其特征在于，其包含： 基板； 合金交界层，设置于该基板的一第一表面上；其中该合金交界层具有多个第一连续条状结构； 电阻层，部分覆盖在该合金交界层上；其中该电阻层具有多个第二连续条状结构，该多个第一连续条状结构与该多个第二连续条状结构对齐； 导体复合结构，设置于该基板的两端，与该电阻层与该合金交界层连接形成二电极； 保护层，设置于该电阻层上，且露出该二电极；以及 电镀层，设置于该基板侧边，包覆该基板两侧。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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