北京至格科技有限公司陈正宇获国家专利权
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龙图腾网获悉北京至格科技有限公司申请的专利一种用于曝光系统的抗干扰机构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223598106U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520238801.5，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型一种用于曝光系统的抗干扰机构是由陈正宇;陶云飞;孟祥峰;冒新宇设计研发完成，并于2025-02-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于曝光系统的抗干扰机构在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种用于曝光系统的抗干扰机构，包括支撑件和遮挡件，遮挡件包括第一遮挡件和第二遮挡件。支撑件围绕放置曝光系统的光学平台设置，支撑件的顶面设置第一遮挡件，支撑件的侧面设置第二遮挡件。通过在放置曝光系统的光学平台设置支撑件，在支撑件的顶面和侧面分别设置遮挡件，阻挡操作间内的空气气流对曝光系统产生的曝光光束造成干扰，从而避免曝光光束干涉形成的干涉条纹出现飘动的情况。
本实用新型一种用于曝光系统的抗干扰机构在权利要求书中公布了：1.一种用于曝光系统的抗干扰机构，其特征在于，包括支撑件和遮挡件，所述遮挡件包括第一遮挡件和第二遮挡件； 所述支撑件围绕放置曝光系统的光学平台设置； 所述支撑件的顶面设置所述第一遮挡件；所述支撑件的侧面设置所述第二遮挡件。
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