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龙图腾网获悉广州市香港科大霍英东研究院;香港科技大学(广州)申请的专利光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758673B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411713006.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质是由罗杨;马宇哲设计研发完成，并于2024-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及光刻技术领域，提供了一种光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质，其中方法包括：基于光刻仿真模型确定初始掩模版在N种工艺参数下分别获得的晶圆图案，N为大于1的整数；基于各种所述工艺参数获得的所述晶圆图案和目标图案之间的偏差，构建N个损失函数，每个所述损失函数对应一种所述工艺参数；对所述初始掩模版进行多轮迭代优化，直至所有的所述损失函数均收敛且达到均衡，得到优化后掩模版。根据本申请实施例方案所获得的优化后掩模版对不同的工艺参数均具有良好的适应性和较高的鲁棒性。

本发明授权光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质在权利要求书中公布了：1.一种光刻掩模多目标鲁棒优化方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 基于光刻仿真模型确定初始掩模版在N种工艺参数下分别获得的晶圆图案，N为大于1的整数； 基于各种所述工艺参数获得的所述晶圆图案和目标图案之间的偏差，构建N个损失函数，每个所述损失函数对应一种所述工艺参数； 对所述初始掩模版进行多轮迭代优化，直至所有的所述损失函数均收敛且达到均衡，得到优化后掩模版； 每轮所述迭代优化包括： 获取N个所述损失函数分别对应的梯度矢量； 从N个所述梯度矢量中确定梯度冲突对，并对各个所述梯度冲突对进行冲突缓解； 在对所有的所述梯度冲突对进行冲突缓解后，得到各个所述梯度矢量分别对应的更新后的梯度矢量； 将N个所述更新后的梯度矢量相加，得到第二梯度融合矢量； 对所述第二梯度融合矢量进行归一化运算，得到第三梯度融合矢量； 根据N个所述更新后的梯度矢量中梯度幅值最大的矢量，确定梯度融合矢量幅值； 根据所述第三梯度融合矢量和所述梯度融合矢量幅值，确定第一梯度融合矢量； 基于所述第一梯度融合矢量对所述初始掩模版中的参数进行更新。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州市香港科大霍英东研究院;香港科技大学(广州)，其通讯地址为：511458 广东省广州市南沙区南沙资讯科技园科技楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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