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龙图腾网获悉山西中来光能电池科技有限公司申请的专利一种优化隧穿氧化钝化电池的表面钝化处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119584674B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411676593.3，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权一种优化隧穿氧化钝化电池的表面钝化处理方法是由张耕;郭飞;焦鸿鑫;张泽泽;熊大明;林建伟设计研发完成，并于2024-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种优化隧穿氧化钝化电池的表面钝化处理方法在说明书摘要公布了：本发明提出了一种优化隧穿氧化钝化电池的表面钝化处理方法，通过在BOE清洗步骤中先将退火后的硅片放入槽式清洗设备的混合溶液中，在混合溶液中清洗120s以上，取出硅片并用足量的DIW进行清洗，之后再将硅片放入酸溶液中，取出硅片并用大量的DIW完全清洗，且在清洗中鼓泡，最后利用NH42S溶液钝化硅片表面；以及在减反射膜制作步骤中将减反射膜分为三层制备。本发明利用硫钝化电池P型发射极，协助氧化铝积聚负电荷增强场钝化效果；钝化硅表面悬挂键，解放氮化硅制备过程中为了氢钝化积聚[H]源带来的工艺窗口缩减；降低电池组件长期使用中因[H]的逸散带来的性能衰减。

本发明授权一种优化隧穿氧化钝化电池的表面钝化处理方法在权利要求书中公布了：1.一种优化隧穿氧化钝化电池的表面钝化处理方法，隧穿氧化钝化电池制备方法主要包括如下步骤：清洗制绒、硼扩散、去除玻璃层及绕镀、碱抛光、背面制备TOPCon结构、退火、BOE清洗、正面氧化铝钝化、减反射膜制作、丝网印刷，其特征在于： 在BOE清洗步骤中：先将退火后的硅片放入槽式清洗设备的混合溶液中，混合溶液为体积比1：8：120的NaOH、H2O2、DIW，在混合溶液中清洗120s以上，取出硅片并用足量的DIW进行清洗，之后再将硅片放入酸溶液中，酸溶液为体积比3：1：12的HF、HCl、DIW，取出硅片并用大量的DIW完全清洗，且在清洗中鼓泡，最后利用NH42S溶液钝化硅片表面； 在减反射膜制作步骤中：减反射膜分为三层制备，第一层减反射膜厚度为15～20nm，制备时温度不超过240℃，第二层减反射膜厚度为15～20nm，制备时温度不超过350℃，第三层减反射膜厚度为40～50nm，制备时温度为480～500℃。

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