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龙图腾网获悉香港科技大学(广州)申请的专利光电子能谱分析方法和装置、电子设备、存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119438276B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411515246.2，技术领域涉及：G01N23/2273；该发明授权光电子能谱分析方法和装置、电子设备、存储介质是由张统一;曹斌;翁禄涛;侯雨箫;郑博琳设计研发完成，并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本光电子能谱分析方法和装置、电子设备、存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种光电子能谱分析方法和装置、电子设备、存储介质，属于表面材料检测技术领域。该方法包括：对目标样品进行光电子能谱检测，获取初始光电子能谱；根据初始光电子能谱进行能谱数据点选取，得到光电子能谱数据点序列；根据期望最大化算法和光电子能谱数据点序列更新预设的初始光电子能谱模型，得到所有的光电子峰组成的第一光电子能谱拟合模型；获取目标样品的目标量子效应约束；根据中心化场近似下的量子效应约束，更新所有的第一光电子峰，得到第二光电子能谱拟合模型；根据第二光电子能谱中光电子峰的伴峰能量比例进行伴峰修正拟合，得到完整的目标光电子能谱。本申请实施例能够提高光电子能谱解析的准确性。

本发明授权光电子能谱分析方法和装置、电子设备、存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光电子能谱分析方法，其特征在于，所述方法包括： 对目标样品进行光电子能谱检测，获取初始光电子能谱； 根据所述初始光电子能谱进行能谱数据点选取，得到光电子能谱数据点序列； 根据预设的期望最大化算法和所述光电子能谱数据点序列对预设的初始光电子能谱拟合模型进行第一模型参数更新，得到第一光电子能谱拟合模型； 获取所述目标样品的目标量子效应约束；其中，所述目标量子效应约束包括峰成对约束条件和峰属性比例阈值； 通过所述第一光电子能谱拟合模型对所述光电子能谱数据点序列进行光电子峰拟合，得到至少两个目标光电子峰； 通过所述峰成对约束条件，对任意两个所述目标光电子峰进行峰成对检验，得到第一目标光电子峰和第二目标光电子峰； 根据所述第一目标光电子峰的属性值和所述第二目标光电子峰的属性值，确定峰属性值比例； 在所述峰属性值比例不等于所述峰属性比例阈值的情况下，根据预设的中心化场近似关系式对所述第一光电子能谱拟合模型进行模型参数更新，得到第二光电子能谱拟合模型； 根据所述第二光电子能谱拟合模型对所述光电子能谱数据点序列进行能谱拟合，得到目标光电子能谱； 其中，所述第一光电子能谱拟合模型的模型参数包括初始峰强参数和初始峰位参数；所述峰属性值比例包括峰强比例，所述峰属性比例阈值包括峰强比例阈值，所述中心化场近似关系式包括中心化场近似劈裂峰关系式； 所述在所述峰属性值比例不等于所述峰属性比例阈值的情况下，根据预设的中心化场近似关系式对所述第一光电子能谱拟合模型进行模型参数更新，得到第二光电子能谱拟合模型，包括： 在所述峰强比例不等于所述峰强比例阈值的情况下，根据所述中心化场近似劈裂峰关系式，确定第一峰强约束关系式和峰位约束关系式； 根据所述第一峰强约束关系式、所述第一目标光电子峰的总角量子数、以及所述第二目标光电子峰的总角量子数，确定第一峰强约束因子； 根据所述第一峰强约束因子更新所述初始峰强参数，得到第一目标峰强参数； 根据所述峰位约束关系式、所述第一目标光电子峰的主量子数、角量子数和总角量子数，以及所述第二目标光电子峰的主量子数、角量子数和总角量子数，确定峰位约束因子； 根据所述峰位约束因子更新所述初始峰位参数，得到目标峰位参数； 根据所述第一目标峰强参数和所述目标峰位参数，确定所述第二光电子能谱拟合模型； 或者，所述第一光电子能谱拟合模型的模型参数包括初始峰强参数；所述峰属性值比例还包括峰面积比例，所述峰成对约束条件还包括卫星伴峰约束条件，所述峰属性比例阈值还包括峰面积比例阈值，所述中心化场近似关系式还包括中心化场近似卫星伴峰关系式； 所述在所述峰属性值比例不等于所述峰属性比例阈值的情况下，根据预设的中心化场近似关系式对所述第一光电子能谱拟合模型进行模型参数更新，得到第二光电子能谱拟合模型，还包括： 在所述峰面积比例不等于所述峰面积比例阈值的情况下，根据所述中心化场近似卫星伴峰关系式，确定第二峰强约束关系式； 根据所述第二峰强约束关系式、所述第一目标光电子峰的峰面积、以及所述第二目标光电子峰的峰面积，确定第二峰强约束因子； 根据所述第二峰强约束因子更新所述初始峰强参数，得到第二目标峰强参数； 根据所述第二目标峰强参数，确定所述第二光电子能谱拟合模型。

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