买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种多孔超薄Cs0.33WO3纳米片及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119349640B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411383385.4，技术领域涉及：C01G41/02；该发明授权一种多孔超薄Cs0.33WO3纳米片及其制备方法和应用是由张高科;王小田;李源设计研发完成，并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多孔超薄Cs0.33WO3纳米片及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种多孔超薄Cs0.33WO3纳米片的制备方法，包括：将Na2WO4·4H2O分散于稀硝酸溶液中，混合搅拌、离心、洗涤、干燥后得到层状WO3·2H2O纳米片前驱体；将层状WO3·2H2O纳米片前驱体分散于去离子水中；超声振荡、离心、过滤、干燥后得到多孔超薄WO3·2H2O纳米片；将多孔超薄WO3·2H2O纳米片加入到无水乙醇中、超声处理；再加入Cs2CO3，搅拌，直至Cs2CO3完全溶解；再加入CH3COOH，搅拌，得到混合溶液；将混合溶液在反应釜中反应后；洗涤、干燥得到多孔超薄Cs0.33WO3纳米片。制备的多孔超薄Cs0.33WO3纳米片光催化剂不仅提供了大量的活性位点，还优化了电子结构，提高了活性位点的本征活性；同时，有利于光生载流子的分离和转移；在全谱光、可见光和近红外光照射下表现出优异的光催化CO2转化性能。

本发明授权一种多孔超薄Cs0.33WO3纳米片及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种多孔超薄Cs0.33WO3纳米片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1、制备层状WO3·2H2O纳米片前驱体：将Na2WO4·4H2O分散于稀硝酸溶液中，混合搅拌、离心、洗涤、干燥后得到层状WO3·2H2O纳米片前驱体； 步骤2、将层状WO3·2H2O纳米片前驱体进行液相剥离：将层状WO3·2H2O纳米片前驱体分散于去离子水中；超声振荡、离心、过滤、干燥后得到多孔超薄WO3·2H2O纳米片； 步骤3、制备多孔超薄Cs0.33WO3纳米片：将多孔超薄WO3·2H2O纳米片加入到无水乙醇中、超声处理；再加入Cs2CO3，搅拌，直至Cs2CO3完全溶解；再加入CH3COOH，搅拌，得到混合溶液；将混合溶液在反应釜中反应一段时间后；洗涤、干燥得到多孔超薄Cs0.33WO3纳米片。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉理工大学，其通讯地址为：430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。