合肥德瑞格光电科技有限公司;安徽皖维先进功能膜材料研究院有限公司韦家慧获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥德瑞格光电科技有限公司;安徽皖维先进功能膜材料研究院有限公司申请的专利一种高耐久性偏光片的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119329095B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411447660.4，技术领域涉及：B29D11/00；该发明授权一种高耐久性偏光片的制作方法是由韦家慧;徐学斌;陈喜成;叶克;王道亮设计研发完成，并于2024-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高耐久性偏光片的制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高耐久性偏光片的制作方法，属于偏光片技术领域。本发明通过在制作偏光片过程中添加过渡高价金属阳离子添加剂，利用其水解聚合可生成多核羟桥络离子的特性与PVA的羟基形成极性键和配位键，加强PVA的交联强度。同时高价金属离子具有高配位能力、高温稳定性好，可促进线性聚碘离子的生成与稳定，因而能够制得具有优异耐久性的偏光膜，特别是具有优异的热稳定性的偏光膜。有效解决了高温下因硼酸减少或者线性I5‑失稳造成偏振度下降、裂纹及漏红光的现象。
本发明授权一种高耐久性偏光片的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种高耐久性偏光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 对聚乙烯醇光学膜进行膨润、染色、交联、拉伸、补色工序；其中在膨润、染色、交联、拉伸、补色的一个或者多个工序中加入过渡高价金属阳离子添加剂； 再对光学膜进行后处理，得到偏光片； 过渡高价金属阳离子添加剂为可溶性的ZrⅣ、FeIII、CrⅢ、TiⅣ中的任意一种或组合； 过渡高价金属阳离子添加剂所在溶液的pH值为2～3。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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