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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种光固化3D打印AlN基超薄精密多孔结构陶瓷的制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119263848B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411219981.9，技术领域涉及：C04B35/581；该发明授权一种光固化3D打印AlN基超薄精密多孔结构陶瓷的制备方法及其应用是由陈斐;刘光毅;黄志锋;张弛;向彬华设计研发完成，并于2024-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光固化3D打印AlN基超薄精密多孔结构陶瓷的制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光固化3D打印制备用于静电卡盘的AlN基超薄精密多孔结构陶瓷的浆料配方及其打印方法，采用邻苯基苯氧乙基丙烯酸酯，1,6‑己二醇二丙烯酸酯和乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯三种树脂，并以5:3:2的配方比例进行浆料制备，能够在50％固含量的情况下显著提高光固化3D打印AlN多孔结构陶瓷浆料的固化深度。有利于打印高精度、无缺陷的AlN超薄精密多孔结构陶瓷坯体。进一步的，结合对烧结温度的合理选择，本发明能够获得应用于静电卡盘的AlN超薄精密多孔结构陶瓷。

本发明授权一种光固化3D打印AlN基超薄精密多孔结构陶瓷的制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种光固化3D打印AlN基超薄精密多孔结构陶瓷的制备方法，其特征在于：包括， 1制备氮化铝光固化浆料： 称取8.46g单官能度光敏树脂活性稀释剂邻苯基苯氧乙基丙烯酸酯，5.08g双官能度光敏树脂活性稀释剂1,6-己二醇二丙烯酸酯，3.38g四官能度光敏树脂活性稀释剂乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯，1g光引发剂苯基双2,4,6-三甲基苯甲酰基氧化膦，0.7g消泡剂204，47.5g氮化铝粉末与三氧化二钇烧结助剂2.5g，1g分散剂SP-710于塑料罐中，加入20g氧化锆球磨珠，在350转分钟的转速下球磨10h，制得光固化浆料； 2进行光固化3D打印： 采用微纳级陶瓷打印机MicroArchS230A，曝光强度30mWcm2，单次曝光时间4秒，单层层厚20微米，打印壁厚分别为120μm、90μm和60μm的立方体多孔陶瓷样件；将打印件用无水乙醇超声清洗2次，每次1min； 3脱脂： 采用两步脱脂法对打印坯体进行脱脂，具体步骤如下：将打印样件置于氮化硼坩埚内，将坩埚放入管式炉，进行脱脂处理；第一步为低温脱脂，首先在氮气气氛下以1℃分钟的升温速率从室温升温到250℃，期间分别在150和250℃保温1h，冷却至室温；第二步为高温脱脂，以1℃的升温速率升温至250℃并保温1h，继而以0.1℃分钟的升温速率升温至600℃，期间分别在350和450℃下保温1h和4h，冷却至室温； 4烧结： 脱脂完毕后在氮气气氛下进行烧结，烧结温度为1850℃，保温时间为5h。

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