应用材料公司米特斯·桑维获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于在基板制造期间调节膜沉积参数的方法和机制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119256394B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380042081.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权用于在基板制造期间调节膜沉积参数的方法和机制是由米特斯·桑维;文卡塔纳拉亚纳·尚卡拉穆尔提;姚雨莲;汪传颖;韩新海设计研发完成，并于2023-05-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于在基板制造期间调节膜沉积参数的方法和机制在说明书摘要公布了：一种电子装置制造系统，能够获得与根据处理配方在基板上执行的沉积处理相关联的计量数据，其中沉积处理在基板的表面上产生多个层。制造系统可进一步获得与处理配方相关联的预期轮廓，其中预期轮廓包括指示处理配方的多个层的期望厚度的多个值。制造系统可进一步基于计量数据和预期轮廓产生校正轮廓，其中校正轮廓包括多个层中的至少一个层的沉积时间偏移值。制造系统可进一步通过将校正轮廓应用到处理配方来产生更新的处理配方，并使得根据更新的处理配方在基板上执行沉积步骤。
本发明授权用于在基板制造期间调节膜沉积参数的方法和机制在权利要求书中公布了：1.一种方法，包括： 使得根据处理配方在基板上执行多个沉积操作的第一沉积操作； 获得与通过所述第一沉积操作形成的第一组层相关联的计量数据； 获得与所述处理配方相关联的预期轮廓，其中所述预期轮廓包括指示所述处理配方的多个层的期望厚度的多个值； 基于所述计量数据和所述预期轮廓产生校正轮廓，其中所述校正轮廓包括所述多个层中的至少一个层的沉积时间偏移值； 通过将所述校正轮廓应用到所述处理配方来产生更新的处理配方；和 使得根据所述更新的处理配方在所述基板上执行所述多个沉积操作的第二沉积操作，其中所述第二沉积操作在所述第一组层上形成第二组层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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