中国科学院上海光学精密机械研究所曹红超获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种反射式全介质二维平面计量光栅获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119148273B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411130596.7，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种反射式全介质二维平面计量光栅是由曹红超;晋云霞;汪瑞;张益彬;王云坤;孔钒宇;韩昱行设计研发完成，并于2024-08-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种反射式全介质二维平面计量光栅在说明书摘要公布了：一种反射式全介质二维平面计量光栅，其特征在于该光栅由下而上依次分别是光栅基底、周期膜系、位相匹配层和顶部二维光栅层，相邻膜层高低折射率交替堆叠。本发明全介质二维平面计量光栅具有偏振不敏感、高化学稳定性和长使用寿命等特点，适用于浸没式曝光条件下的平面光栅测量系统。
本发明授权一种反射式全介质二维平面计量光栅在权利要求书中公布了：1.一种反射式全介质二维平面计量光栅，其特征在于，该光栅由下而上依次分别是光栅基底、周期膜系，位相匹配层和顶部二维光栅层，相邻膜层高低折射率交替堆叠；所述的周期膜系由周期膜系高折射率材料层和周期膜系低折射率材料层交替叠加构成；所述的光栅基底和周期膜系构成底部高反射层，该底部高反射层的膜系为：S∣HnL^m∣H，其中，S为光栅基底；H和L分别代表光学厚度为λr4的周期膜系高折射率材料层和周期膜系低折射率材料层，λr为参考波长，m代表膜层周期数，m为正整数，n代表周期膜系低折射率材料层的厚度系数，n＞0；所述的位相匹配层由高折射率材料和或低折射率材料构成；所述的顶部二维光栅由高折射率材料或低折射率材料构成，该光栅层x和y两个方向的周期Px和Py相等，均为800-2100纳米，x方向光栅矢量和y方向光栅矢量正交成90°夹角或45°夹角，x方向和y方向光栅顶部的占宽比fx和fy分别为0.4-0.7；所述周期膜系高折射率材料层由高折射率材料构成，所述周期膜系低折射率材料层由低折射率材料构成； 所述的顶部光栅层、位相匹配层、周期膜系所使用的低折射率材料为SiO2；高折射率材料为HfO2或Ta2O5。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院上海光学精密机械研究所，其通讯地址为：201800 上海市嘉定区清河路390号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励