浙江创芯集成电路有限公司王科获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利光学邻近修正方法、存储介质及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118963055B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411135478.5，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法、存储介质及终端是由王科;任堃;高大为;吴永玉设计研发完成，并于2024-08-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法、存储介质及终端在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法、存储介质及终端，其中光学邻近修正方法包括：提供晶圆版图，晶圆版图中具有若干目标图形；在晶圆版图上选取测量原点；基于测量原点获取每个目标图形的特征元素；基于特征元素判断不同目标图形之间是否具有关联性；在具有关联性的目标图形之间进行光学邻近修正结果复用；对剩余不具有关联性的目标图形进行光学邻近修正。通过在晶圆版图上仅选取1个测量原点，由于各个特征元素均是基于同1个测量原点而获取的，在基于特征元素进行不同目标图形之间是否具有关联性的判断时，不需进行数据的转换而可以直接进行对比，能够有效提升光学邻近修正的速度，而且也不会造成数据间的混淆，能够有效提升光学邻近修正的结果。
本发明授权光学邻近修正方法、存储介质及终端在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供晶圆版图，所述晶圆版图中具有若干目标图形； 在所述晶圆版图上选取1个测量原点； 基于所述测量原点获取每个所述目标图形的特征元素； 基于所述特征元素判断不同所述目标图形之间是否具有关联性； 在具有所述关联性的所述目标图形之间进行光学邻近修正结果复用； 对剩余不具有关联性的所述目标图形进行光学邻近修正。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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