昆明理工大学杨勇获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种MOF衍生MoO3光催化材料及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117884112B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311818645.1，技术领域涉及：B01J23/28；该发明授权一种MOF衍生MoO3光催化材料及应用是由杨勇;洪董凤;张可婧;杨明烁;杨睿静;王齐;邱建备设计研发完成，并于2023-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种MOF衍生MoO3光催化材料及应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种MOF衍生MoO3光催化材料及应用，属于CO2催化还原技术领域。所述MOF衍生MoO3光催化材料为依次对Mo‑MOF材料煅烧、还原处理得到含有氧空位的材料。本发明Mo‑MOF衍生MoO3保留了Mo‑MOF有机框架的形貌和多孔结构，并构建氧空位为CO2还原提供更多的反应活性位点。另外，MoO3材料为具有局域表面等离子体共振效应的半导体缺陷氧化钼，能够将光吸收范围拓展到近红外区域，大大加强了其对太阳光的利用，实现光催化还原CO2；并且氧空位的形成，增加了MOF衍生MoO3光催化材料对CO2的吸附能、降低了CO的吸附能，并且使反应过程中的CO2生成CO的中间体COOH*更加稳定，从而提高了还原CO2时生成CO的选择性。
本发明授权一种MOF衍生MoO3光催化材料及应用在权利要求书中公布了：1.一种MOF衍生MoO3光催化材料在光催化还原CO2上的应用，其特征在于，所述MOF衍生MoO3光催化材料为依次对Mo-MOF材料煅烧、还原处理得到含有氧空位的MoO3材料； 所述MOF衍生MoO3光催化材料的制备方法，包括如下步骤： 1将三氧化钼、有机框架和水混合进行冷凝回流，得到Mo-MOF前驱体；将Mo-MOF前驱体在马弗炉中进行煅烧处理，得到MOF衍生MoO3光催化剂； 2将MOF衍生MoO3光催化剂、抗坏血酸和水混合，在50~90℃下加热搅拌0.2~6h得到MOF衍生MoO3光催化材料； 所述三氧化钼与有机框架的摩尔比为0.5-1.2:0.7-1.3；所述MOF衍生MoO3光催化剂与抗坏血酸的质量比为0.5~2。
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