横店集团东磁股份有限公司杨晨获国家专利权
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龙图腾网获悉横店集团东磁股份有限公司申请的专利一种永磁铁氧体用高硅铁红中硅杂质的去除方法及使用高硅铁红制备永磁铁氧体的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117658645B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211034108.3，技术领域涉及：C04B35/626；该发明授权一种永磁铁氧体用高硅铁红中硅杂质的去除方法及使用高硅铁红制备永磁铁氧体的方法是由杨晨;姚淦设计研发完成，并于2022-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种永磁铁氧体用高硅铁红中硅杂质的去除方法及使用高硅铁红制备永磁铁氧体的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及永磁铁氧体制备技术领域，公开一种永磁铁氧体用高硅铁红中硅杂质的去除方法，包括高硅铁红与氢氧化钠混合，加热使氢氧化钠熔融发生反应；反应后将熔融的碱液和高硅铁红离心分离；降温并漂洗固体、干燥。本发明的技术方案解决了高硅铁红因硅含量太高而难以直接用于现有工艺制作高性能的永磁铁氧体的问题，所提供的高硅铁红的硅杂质去除方法能有效去除所含的二氧化硅、碳化硅等杂质，满足高性能永磁铁氧体的制备，所制备的永磁铁氧体的性能与使用低硅含量铁红的制备性能相近，极大的拓展了制备永磁铁氧体的铁红原料来源，降低了铁红原料成本。
本发明授权一种永磁铁氧体用高硅铁红中硅杂质的去除方法及使用高硅铁红制备永磁铁氧体的方法在权利要求书中公布了：1.一种永磁铁氧体用高硅铁红中硅杂质的去除方法，其特征在于，包括以下步骤： 1-1高硅铁红与氢氧化钠混合，加热使氢氧化钠熔融发生反应，高硅铁红中硅含量≥0.2wt%； 1-2反应后将熔融的碱液和高硅铁红离心分离； 1-3降温并漂洗固体、干燥，使用碳酸氢钠溶液漂洗。
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