合肥中聚和成电子材料有限公司吴际峰获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥中聚和成电子材料有限公司申请的专利一种高稳定性高安全性铜酸刻蚀液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117070947B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310931416.4，技术领域涉及：C23F1/18；该发明授权一种高稳定性高安全性铜酸刻蚀液及其制备方法是由吴际峰;王维康;黄德新;张家明设计研发完成，并于2023-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高稳定性高安全性铜酸刻蚀液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高稳定性高安全性铜酸刻蚀液及其制备方法，属于刻蚀技术领域，该铜酸刻蚀液，包括如下重量百分比原料：过氧化氢5‑24％；过硫酸铵0.5‑6％；螯合剂0.5‑8％；主稳定剂0.05‑2％；辅助稳定剂0‑3％；主缓蚀剂0.05‑2％；辅助缓蚀剂0‑0.4％；pH调节剂0‑1％；氟化物0.1％；余量为水。本发明所使用的过氧化氢是作为主氧化剂，将裸露的金属氧化成金属氧化物，主要影响刻蚀速率及刻蚀形貌。使用过硫酸铵降低过氧化氢使用量，依旧保持强势的氧化能力，提高刻蚀液的安全性。
本发明授权一种高稳定性高安全性铜酸刻蚀液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高稳定性高安全性铜酸刻蚀液，其特征在于，包括如下重量百分比原料： 过氧化氢5-24%； 过硫酸铵0.5-6%； 螯合剂5-8%； 主稳定剂0.05-2%； 辅助稳定剂1-3%； 主缓蚀剂0.1-0.5%； 辅助缓蚀剂0-0.4%； pH调节剂0.4-2%； 氟化物0.1%； 余量为水； 螯合剂为甘氨酸和氨基二乙酸按照任意比例混合； 主稳定剂为二乙氨基乙醇； 辅助稳定剂为聚乙二醇400； 主缓蚀剂为甲基苯骈三氮唑、聚天冬氨酸中的一种或两种按照任意比例混合； 辅助缓蚀剂为硅酸钠、钼酸钠中的一种或两种按照任意比例混合； pH调节剂为羟基亚乙基二膦酸。
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