季华实验室刘守河获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利加工路径生成方法、装置、设备及计算机可读存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116945189B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311125103.6,技术领域涉及:B25J9/16;该发明授权加工路径生成方法、装置、设备及计算机可读存储介质是由刘守河;谢晖;易建业设计研发完成,并于2023-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本加工路径生成方法、装置、设备及计算机可读存储介质在说明书摘要公布了:本公开涉及一种加工路径生成方法、装置、设备及计算机可读存储介质,该方法包括:获取工件模型的待加工路径,工件模型包括至少一个待加工面;对待加工路径进行离散化,确定待加工路径对应的离散点集合;根据离散点集合中每个离散点所属的待加工面的法向量,确定每个离散点的偏置方向;根据离散点集合中每个离散点在待加工面上对应位置的曲率,确定每个离散点的偏置距离;基于偏置方向和偏置距离,对离散点集合中的每个离散点进行偏置操作,得到偏置点集合,偏置点集合包括多个偏置点,偏置点与离散点集合中的离散点一一对应;根据偏置点集合,生成工具的加工路径。本公开实现了一种快速且低成本的加工路径生成方法。
本发明授权加工路径生成方法、装置、设备及计算机可读存储介质在权利要求书中公布了:1.一种加工路径生成方法,其特征在于,所述方法包括: 获取工件模型的待加工路径,所述工件模型包括至少一个待加工面; 对所述待加工路径进行离散化,确定所述待加工路径对应的离散点集合; 将所述离散点集合中每个离散点所属的待加工面的法向量,确定为所述每个离散点的偏置方向; 根据所述离散点集合中每个离散点在所述待加工面上对应位置的曲率,确定所述每个离散点的偏置距离; 基于所述偏置方向和所述偏置距离,对所述离散点集合中的每个离散点进行偏置操作,得到偏置点集合,所述偏置点集合包括多个偏置点,所述偏置点与所述离散点集合中的离散点一一对应; 根据所述偏置点集合,生成工具的加工路径; 所述根据所述离散点集合中每个离散点在所述待加工面上对应位置的曲率,确定所述每个离散点的偏置距离,包括: 若所述离散点在所述待加工面上对应位置的归一化曲率小于预设曲率阈值,则确定所述离散点的偏置距离为第一预设偏置距离; 若所述离散点在所述待加工面上对应位置的归一化曲率大于或等于预设曲率阈值,则确定所述离散点的偏置距离为第二预设偏置距离,所述第二预设偏置距离与所述第一预设偏置距离的差值为所述离散点在所述待加工面上对应位置的归一化曲率和所述曲率阈值之差与预设系数的乘积。
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