东海光学株式会社西本圭司获国家专利权
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龙图腾网获悉东海光学株式会社申请的专利光学薄膜的制造方法和光学薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116583619B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180079261.5，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权光学薄膜的制造方法和光学薄膜是由西本圭司;井上知晶设计研发完成，并于2021-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学薄膜的制造方法和光学薄膜在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供一种光学薄膜的制造方法，其能够低廉地制造第1薄膜部与第2薄膜部分开的光学薄膜。该光学薄膜的制造方法是在基材2的成膜面F制造具有第1薄膜部10、以及膜结构与其不同的第2薄膜部12的光学薄膜1的方法，其包括下述工序：在成膜面F的第1成膜部分上形成第1薄膜部10的工序；在第1薄膜部10上形成清洗时去除膜W的工序，该清洗时去除膜W具有绒毛状结构、棱锥群状结构以及花插座状结构中的至少任一结构，是铝和铝的化合物中的至少一者；在成膜面F的与第1成膜部分不同的第2成膜部分上、以及形成有第1薄膜部10和清洗时去除膜W的第1成膜部分上形成第2薄膜部12的工序；以及通过清洗去除清洗时去除膜W及其上的第2薄膜部12的工序。
本发明授权光学薄膜的制造方法和光学薄膜在权利要求书中公布了：1.一种光学薄膜的制造方法，其是在基材的成膜面直接或隔着中间膜制造具有第1薄膜部、以及膜结构与所述第1薄膜部不同的第2薄膜部的光学薄膜的方法，该方法的特征在于，其包括下述工序： 在所述成膜面的第1成膜部分上形成所述第1薄膜部的工序； 在所述第1薄膜部上形成清洗时去除膜的工序，该清洗时去除膜具有绒毛状结构、棱锥群状结构以及花插座状结构中的至少任一结构，是铝和铝的化合物中的至少一者； 在所述成膜面的与所述第1成膜部分不同的第2成膜部分上、以及在形成了所述第1薄膜部和所述清洗时去除膜的所述第1成膜部分上形成所述第2薄膜部的工序；以及 通过清洗去除所述清洗时去除膜及其上的所述第2薄膜部的工序。
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