恩希爱(杭州)薄膜有限公司蒋纪辉获国家专利权
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龙图腾网获悉恩希爱(杭州)薄膜有限公司申请的专利一种带基材可碳带打印的逆反射片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116338841B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111582225.9，技术领域涉及：G02B5/128；该发明授权一种带基材可碳带打印的逆反射片是由蒋纪辉;韩剑钧;肖岳堂;陈燕设计研发完成，并于2021-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种带基材可碳带打印的逆反射片在说明书摘要公布了：本发明提供了一种带基材可碳带打印的逆反射片，所述的带基材可碳带打印的逆反射片包括逆反射结构层、镜面反射层和基材层；其中，所述镜面反射层与基材层通过粘合剂层连接，并且，粘合剂层的断裂强度在1.7Nmm2以下，伸度在220mm以上，90°角的剥离力在10N25mm以上；所述基材层选自单层或多层树脂膜的层合膜，所述基材层的厚度为188～1000μm。
本发明授权一种带基材可碳带打印的逆反射片在权利要求书中公布了：1.一种带基材可碳带打印的逆反射片，其特征在于，所述的带基材可碳带打印的逆反射片由上至下依次包括逆反射结构层、镜面反射层和基材层；其中， 所述镜面反射层与基材层通过粘合剂层连接，并且，粘合剂层的断裂强度在1.7Nmm2以下，伸度在220mm以上，90°角的剥离力在10N25mm以上；所述基材层选自单层或多层树脂膜的层合膜， 所述基材层的厚度为300～600μm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人恩希爱(杭州)薄膜有限公司，其通讯地址为：311231 浙江省杭州市萧山经济技术开发区桥南区块鸿达路99号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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