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龙图腾网获悉中国人民解放军96901部队23分队申请的专利一种远距离α放射性物质表面沾染测量的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116256789B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310183741.7，技术领域涉及：G01T1/167；该发明授权一种远距离α放射性物质表面沾染测量的方法是由程金星;吴泽乾;王庆波;绪梅;吴友朋;温伟伟;于艾设计研发完成，并于2023-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种远距离α放射性物质表面沾染测量的方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种远距离α放射性物质表面沾染测量的方法，包括远距离α放射性点源的测量和远距离α表面沾染计数率的测量步骤。远距离α放射性点源的测量包含α粒子的本征探测效率、收集效率计算及探测效率计算；所述远距离α表面沾染计数率的测量包含建立沾染计数率模型、探测区域内各处点源探测效率的均值计算、计算出探测区域D的半径R的表达式及对所述放射性面源探测效率随屏蔽体张角的变化关系进行最小二乘拟合过程。本申请利用单光子计数器探测荧光光子，并利用所建立的模型将所测计数率值转化为操作干预水平中要求的表面沾染的计数率。

本发明授权一种远距离α放射性物质表面沾染测量的方法在权利要求书中公布了：1.一种远距离α放射性物质表面沾染测量的方法，其特征在于，包括远距离α放射性点源的测量和远距离α表面沾染计数率的测量步骤；所述远距离α放射性点源的测量包含α粒子的探测效率计算、收集效率计算及本征探测效率计算； 所述远距离α表面沾染计数率的测量包含建立沾染计数率模型、探测区域内各处点源探测效率的均值计算、计算出探测区域D的半径R的表达式及对所述放射性面源探测效率随屏蔽体张角的变化关系进行最小二乘拟合过程； 所述建立沾染计数率模型包括：将待测量的对象视为α放射性均匀分布的放射性面源，并将探测器表面与该放射性面源表面平行放置，以及在探测器探头处增设圆锥形屏蔽罩，表面沾染计数率用公式5进行计算： 5 其中，εPMT_S为探测器对放射性面源的探测效率； 所述探测区域内各处点源探测效率的均值计算为： 6 其中，εPMTr是探测器对水平距离为r处α点源的探测效率；D是以探测器中心在表面沾染的垂直投影点为圆心，且以探测器对α表面沾染的探测范围为半径所围成的圆形区域； 所述计算出探测区域D的半径R的表达式，见式7： 7 其中，d为探测器到放射性沾染表面的垂直距离，θ为屏蔽锥形罩的张角，RPMT为探测器表面的半径； 对所述放射性面源探测效率随屏蔽体张角的变化关系进行多项式拟合： 8 其中，为拟合系数；得到探测器对表面沾染的探测效率后，即可根据公式5得到放射性沾染的α射线表面计数率。

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