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龙图腾网获悉无锡微视传感科技有限公司申请的专利一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116124033B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211446150.6，技术领域涉及：G01B11/25；该发明授权一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法是由程进;徐乃涛;孙其梁;李宋泽;梁一超设计研发完成，并于2022-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法在说明书摘要公布了：本发明的一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法，包括：S1、采集一组四步相移光栅图，并进行解算；S2、对调制度与背景光进行双重降采样，剔除过饱合的采样值进行排序并作直方图；S3、找到直方图上标记位置的调制度值与背景光强值；S4、根据步骤S3得到曝光时间与背景光的关系，找到当前帧的最适宜曝光时间；S5、将当前帧的最适宜曝光时间与当前帧曝光时间作比较，输出稳定值；S6、设置当前帧的最适宜曝光时间，点云生成。本发明解决了相机曝光过程中未针对点值调整曝光时间，导致曝光时间过高或过低影响测量效率和质量的问题。

本发明授权一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法在权利要求书中公布了：1.一种基于结构光条纹的自动曝光控制方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、采集一组四步相移光栅图，并进行解算； S2、对调制度与背景光进行双重降采样，剔除过饱合的采样值进行排序并作直方图；所述双重降采样包括： S21、第一重降采样：根据感兴趣区域法进行降采样，其图像中间采样区域大，八个方位采样区域小； S22、第二重降采样：根据位置的不同，设计不同权重进行降采样； S23、对二重降采样后的调制度与背景光一维数组，进行直方图操作，调制度数组作为直方图自变量，背景光数组作为直方图因变量； S3、找到直方图上标记位置的调制度值与背景光强值；包括： S31、所述标记位置是调制度从大向小排序在第2.5%的位置的调制度值，使用该值找到对应位置的背景光强值； 投影到拍摄的公式： 式中，s表示传感器敏感度；t表示相机的曝光时间；表示物体的反射率；表示经物体反射的环境光；表示直接进入相机中的环境光； 由于的环境光远小于主动投影条纹的光强，上式可简化为： 依据四步相移，四幅条纹图相互叠加得到关于曝光时间与背景光的关系： 式中，表示投影时设置的背景光强值，表示对应位置的背景光强值； S32、判断是否找到的调制度值小于5，若是则判断当前帧曝光时间不足，设置曝光时间为40ms作为当前帧的输出；若否，则进入步骤S4； S4、根据步骤S3得到曝光时间与背景光的关系，找到当前帧的最适宜曝光时间 S5、将当前帧的最适宜曝光时间与当前帧曝光时间作比较，即为判断二者差值是否满足条件： |-|2 若满足，则执行当前帧的最适宜曝光时间，若不满足，则取当前帧的最适宜曝光时间与当前帧曝光时间的平均值，作为新的当前帧曝光时间，再次循环，直至满足条件，即为输出稳定值； S6、设置当前帧的最适宜曝光时间，点云生成。

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