上海联影医疗科技股份有限公司樊曼获国家专利权
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龙图腾网获悉上海联影医疗科技股份有限公司申请的专利匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115879253B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111109505.8,技术领域涉及:G06F30/20;该发明授权匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质是由樊曼;刘曙光;杨绩文设计研发完成,并于2021-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质在说明书摘要公布了:本申请涉及一种匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质,该方法根据抗耦合线圈的能量和与抗耦合线圈的电流参数的关系,确定抗耦合线圈能量最大时的第一电流参数;根据匀场线圈的能量和匀场线圈的电流参数的关系,确定匀场线圈能量最小时的第二电流参数;根据第一电流参数确定抗耦合线圈的导线分布,根据第二电流参数确定匀场线圈的导线分布。使用本申请提供的匀场装置设计方法设计的匀场装置不会对匀场电源造成损坏,从而能够保证匀场装置的正常工作。
本发明授权匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质在权利要求书中公布了:1.一种匀场装置设计方法,其特征在于,所述匀场装置包括匀场线圈以及设置在所述匀场线圈两端的抗耦合线圈,所述方法包括: 根据所述抗耦合线圈的能量与所述抗耦合线圈的电流参数的关系,确定所述抗耦合线圈能量最大时的第一电流参数;所述第一电流参数用于表征所述抗耦合线圈能量最大时,所述抗耦合线圈的每一个网格的通过电流; 根据所述匀场线圈的能量与所述匀场线圈的电流参数的关系,确定所述匀场线圈能量最小时的第二电流参数,所述第二电流参数用于表征所述匀场线圈能量最小时,所述匀场线圈的每一个网格的通过电流; 根据所述第一电流参数确定所述抗耦合线圈的导线分布,根据所述第二电流参数确定所述匀场线圈的导线分布。
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