武汉颐光科技有限公司刘亚鼎获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉颐光科技有限公司申请的专利一种光学测量系统全局校准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115753628B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211352578.4，技术领域涉及：G01N21/21；该发明授权一种光学测量系统全局校准方法是由刘亚鼎;石雅婷;郭春付;李伟奇;张传维;薛小汝;何勇设计研发完成，并于2022-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学测量系统全局校准方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种光学测量系统全局校准方法，针对复合波片可能存在的正反装，设计了各种不同安装方式的系统模型，并通过不同系统模型的迭代求解出正确的全局系统参数以及光学测量系统的当前安装方式，进而能够迭代求解出待测样件的参数，对于存在波片反装的情况，也能实现光学测量系统参数的全局校准，增加了光学测量系统的全局校准的鲁棒性。
本发明授权一种光学测量系统全局校准方法在权利要求书中公布了：1.一种光学测量系统的全局校准方法，其特征在于，包括： 获取标准样件在光学测量系统的全波段光强信息，将所述光强信息进行傅里叶变换，计算出标准样件的实测傅里叶系数； 根据所述实测傅里叶系数和通过与光学测量系统中复合波片的不同安装方式对应的多个系统模型计算出的理论傅里叶系数，迭代求解出光学测量系统的全局系统参数，并确定出光学测量系统的当前安装方式； 获取待测样件在光学测量系统的全波段光强信息，将所述光强信息进行傅里叶变换，计算出待测样件的实测傅里叶系数； 根据所述待测样件的实测傅里叶系数和全局系统参数，通过与光学测量系统的当前安装方式对应的系统模型，迭代求解出待测样件参数；所述光学测量系统中复合波片包括起偏复合波片和检偏复合波片，所述光学测量系统中复合波片的不同安装方式包括起偏复合波片正装-检偏复合波片正装、起偏复合波片正装-检偏复合波片反装、起偏复合波片反装-检偏复合波片正装和起偏复合波片反装-检偏复合波片反装。
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