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龙图腾网获悉中国原子能科学研究院申请的专利一种辐照加工系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115132398B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210767823.1，技术领域涉及：G21K5/04；该发明授权一种辐照加工系统是由崔爱军;韩广文;朱志斌;张立锋;吕约澎;闫洁;余国龙设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种辐照加工系统在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种辐照加工系统，涉及辐照技术领域，用于解决辐照加工系统占用空间不合理的问题。该辐照加工系统包括辐照加速器、辐照传输线路与第一屏蔽结构。辐照传输线路呈封闭的环状延伸；第一屏蔽结构形成有第一屏蔽腔，第一屏蔽腔沿辐照传输线路延伸，辐照传输线路的一部分容纳于第一屏蔽腔内，第一屏蔽腔包括本体部与两个弯折部，辐照加速器的靶点位于本体部内的中部，辐照传输线路通过两个弯折部的末端沿延伸路径伸出第一屏蔽腔，两个弯折部分别设置于本体部的两端，弯折部的首端与本体部的延伸方向之间具有夹角，沿本体部的宽度方向，两个弯折部分别位于本体部的相对两侧。本申请实施例提供的辐照加工系统用于进行辐照加工。

本发明授权一种辐照加工系统在权利要求书中公布了：1.一种辐照加工系统，其特征在于，包括： 辐照加速器； 辐照传输线路，呈封闭的环状延伸； 第一屏蔽结构，形成有第一屏蔽腔，所述第一屏蔽腔沿所述辐照传输线路延伸，所述辐照传输线路的一部分容纳于所述第一屏蔽腔内，所述第一屏蔽腔包括本体部与两个弯折部，所述辐照加速器的靶点位于所述本体部内的中部，所述辐照传输线路通过两个所述弯折部的末端沿延伸路径伸出所述第一屏蔽腔，两个所述弯折部分别设置于所述本体部的两端，所述弯折部的首端与所述本体部的延伸方向之间具有夹角，沿所述本体部的宽度方向，两个所述弯折部分别位于所述本体部的相对两侧； 所述第一屏蔽结构上形成有开口，所述开口的轮廓大于所述辐照加速器的扫描盒的轮廓，以使所述扫描盒能够通过所述开口伸入所述第一屏蔽腔内，所述辐照加工系统还包括第二屏蔽结构，所述第二屏蔽结构可拆卸地盖设于所述开口，所述第二屏蔽结构形成有通孔，所述辐照加速器的机头穿设于所述通孔内，以使所述扫描盒位于所述第二屏蔽结构靠近所述第一屏蔽腔内的一侧，所述辐照加速器的机头与所述通孔的内壁贴合； 所述第二屏蔽结构靠近所述第一屏蔽腔内的一侧支撑于所述第一屏蔽结构上，所述第二屏蔽结构与所述辐照加速器的机头固定连接，以使所述辐照加速器的机头支撑于所述第一屏蔽结构上； 还包括第三屏蔽结构，所述第三屏蔽结构的一端与所述第一屏蔽结构的外壁抵接，且环绕所述开口，另一端向远离所述第一屏蔽结构的方向延伸，以使所述第一屏蔽结构与所述第三屏蔽结构之间形成第二屏蔽腔，所述辐照加速器的机头位于所述第二屏蔽腔内； 所述第二屏蔽结构位于所述第二屏蔽腔内，且所述第二屏蔽结构位于所述扫描盒和所述第三屏蔽结构之间。

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