东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置及等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113327834B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110189890.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法是由舆水地盐设计研发完成，并于2021-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置及等离子体处理方法在说明书摘要公布了：本发明的等离子体处理装置具备等离子体处理腔室、基板支承器、偏置电源及高频电源。基板支承器配置于等离子体处理腔室内且包括电极。偏置电源与电极结合，构成为产生具有第1频率的偏置电力。高频电源与等离子体处理腔室结合，构成为产生具有比第1频率高的第2频率的高频电力。高频电力在偏置电力的一个周期内的第1期间具有第1功率电平，在偏置电力的一个周期内的第2期间具有比第1功率电平低的第2功率电平。
本发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其具备： 等离子体处理腔室； 基板支承器，配置于所述等离子体处理腔室内且包括电极； 偏置电源，与所述电极结合，构成为产生在一个周期内的第1期间具有第1电压电平、在该一个周期内的第2期间以及该第2期间之后的第3期间具有第2电压电平的电偏置，该第1电压电平的绝对值比该第2电压电平的绝对值大；及 高频电源，与所述等离子体处理腔室结合，构成为产生在所述一个周期内的所述第1期间具有第1功率电平、在所述一个周期内的所述第2期间具有第2功率电平、在所述一个周期内的所述第3期间具有第3功率电平、在所述一个周期内的所述第2期间与所述第3期间之间的第4期间具有第4功率电平的高频电力，所述第2功率电平比所述第3功率电平大，所述第3功率电平比所述第1功率电平大，所述第4功率电平为所述第1功率电平和所述第3功率电平之间的电平。
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