沈阳芯源微电子设备股份有限公司王超群获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种涂胶显影设备及晶圆加工系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223582319U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423028671.7，技术领域涉及：G03F7/16；该实用新型一种涂胶显影设备及晶圆加工系统是由王超群;张建;陈兴隆设计研发完成，并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种涂胶显影设备及晶圆加工系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种涂胶显影设备，其特征在于，包括：涂胶单元、覆膜单元、显影单元和去膜单元；涂胶单元用于对晶圆进行光刻胶涂布工艺处理；覆膜单元用于在晶圆背面涂覆光滑膜层，以增加晶圆背面的光滑度；显影单元，用于对曝光后的晶圆进行显影工艺处理；去膜单元，用于去除晶圆背面的光滑膜层；涂胶显影设备还包括接口塔、清洁单元、晶圆载台和机械手；清洁单元设置在接口塔中，用于清洁晶圆载台和机械手。通过在涂胶显影系统中设置覆膜单元，可以实现在晶圆的背面涂覆光滑膜层。光滑膜层可有效降低光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力；通过在接口塔中设置清洁单元，可以有效地清除掉晶圆载台和机械手上的污染物颗粒。
本实用新型一种涂胶显影设备及晶圆加工系统在权利要求书中公布了：1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括： 涂胶单元，用于对晶圆进行光刻胶涂布工艺处理； 覆膜单元，所述覆膜单元用于在晶圆背面涂覆光滑膜层，以增加所述晶圆背面的光滑度； 显影单元，用于对曝光后的所述晶圆进行显影工艺处理； 去膜单元，用于去除所述晶圆背面的光滑膜层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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