芯恩(青岛)集成电路有限公司王凡获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置及膜厚测量装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223580953U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520336746.3,技术领域涉及:G01B11/06;该实用新型椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置及膜厚测量装置是由王凡;盖文超;张冉设计研发完成,并于2025-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置及膜厚测量装置在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置及膜厚测量装置,辅助装置包括承载件、激光器、X射线发生器、定位机构、信号收集模块和能量分析模块。本实用新型的椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置,能够与现有的椭圆偏振光谱仪进行联合,通过在样品台上附加X射线发生器,信号收集模块和能量分析模块等组件,实现附加的光电子能谱信号的分析功能,同时对待测工件的装载和移动相关的机构进行改良,通过移动平台带动待测工件,将待测工件定位于激光束和X射线束的汇集处附近,基于激光照射前后的反应信号能够辨别目标膜层是否受损,辅助装置与现有的半导体生产设备和生产平台兼容,无需对现有生产线进行大规模改造,可以有效节约生产检测成本。
本实用新型椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置及膜厚测量装置在权利要求书中公布了:1.一种椭圆偏振法膜厚测量的辅助装置,其特征在于,包括: 承载件,用于放置待测工件,所述待测工件远离所述承载件的一面形成有目标膜层; 激光器,位于所述承载件的上方,用于沿第一光学路径向所述目标膜层提供激光束,所述激光束投射至所述目标膜层以限定关注位置; X射线发生器,设置于所述承载件上方的第一侧,用于向所述目标膜层投射X射线束,所述目标膜层受所述X射线束激发而出射反应信号; 定位机构,所述定位机构包括移动平台和支撑柱,所述支撑柱附接于所述移动平台且其一端部穿过所述承载件升降运动以用于所述待测工件在所述承载件放置到位,所述移动平台位于所述承载件的下方,用于将所述待测工件移动并定位至所述第一光学路径上; 信号收集模块,用于对所述关注位置出射的反应信号进行电子束聚焦;以及,能量分析模块,位于所述承载件上方的第二侧,用于基于所聚焦的电子束获取用于表征所述目标膜层的表面信息的光电子能谱信号,所述第二侧与所述第一侧相对设置。
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