山东华菱电子股份有限公司片桐让获国家专利权
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龙图腾网获悉山东华菱电子股份有限公司申请的专利热敏打印头用发热基板及热敏打印装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223559317U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520094319.9,技术领域涉及:B41J2/335;该实用新型热敏打印头用发热基板及热敏打印装置是由片桐让;赤松秀一;张东娜设计研发完成,并于2025-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本热敏打印头用发热基板及热敏打印装置在说明书摘要公布了:本实用新型涉及热敏打印头制造技术领域,具体地说是一种能够有效实现预热,进而提升打印品质的热敏打印头用发热基板及热敏打印装置,其特征在于,还设有疏水性高熵氧化物或高熵氮化物光热膜,所述疏水性高熵氧化物或氮化物光热膜呈条形设置并位于保护层上表面,高熵氧化物或氮化物光热膜的长度方向与发热电阻体同向,疏水性高熵氧化物或氮化物光热膜的宽度方向由发热电阻体的进纸侧延伸至发热电阻体出纸侧的边缘,与现有技术相比,具有结构合理、工艺可靠,能够避免粘纸及首行打印不良等问题。
本实用新型热敏打印头用发热基板及热敏打印装置在权利要求书中公布了:1.一种热敏打印头用发热基板,设有绝缘基板,绝缘基板上设有蓄热釉层,蓄热釉层上设有发热电阻体,绝缘基板上还设有电极导线,电极导线与发热电阻体相连,电极导线与发热电阻体的上表面设有保护层,其特征在于,还设有疏水性高熵氧化物或氮化物光热膜,所述疏水性高熵氧化物或氮化物光热膜呈条形设置并位于保护层上表面,高熵氧化物或氮化物光热膜的长度方向与发热电阻体同向,疏水性高熵氧化物或氮化物光热膜的宽度方向由发热电阻体的进纸侧延伸至发热电阻体出纸侧的边缘。
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