皇家飞利浦有限公司M·P·维尔梅茨获国家专利权
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龙图腾网获悉皇家飞利浦有限公司申请的专利用于X射线暗场、相位对比和衰减图像采集的系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114269250B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080059728.5,技术领域涉及:A61B6/03;该发明授权用于X射线暗场、相位对比和衰减图像采集的系统是由M·P·维尔梅茨;T·克勒;R·普罗克绍;F·J·普法伊费尔设计研发完成,并于2020-08-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于X射线暗场、相位对比和衰减图像采集的系统在说明书摘要公布了:本发明涉及一种用于X射线暗场、相位对比和衰减图像采集的系统10。所述系统包括X射线源20、干涉仪装置30、X射线探测器40、控制单元50和输出单元60。定义从X射线源的中心延伸到X射线探测器的中心的轴;检查区域被定位于X射线源与X射线探测器之间。所述轴延伸穿过检查区域,并且检查区域被配置为使得能够定位要被检查的对象。干涉仪装置被定位于X射线源与X射线探测器之间。所述干涉仪装置包括第一光栅32和第二光栅34。针对第一操作模式:所述控制单元被配置为控制至少一个横向移动的换能器70以在垂直于轴的横向位置方向上移动第一光栅或移动第二光栅。所述控制单元被配置为控制所述X射线探测器以在所述第一光栅和或所述第二光栅移动时采集图像数据。在所述X射线探测器的曝光时间期间,所述第一光栅和或所述第二光栅已经移动了小于所述第一光栅和或所述第二光栅的周期的距离。所述控制单元被配置为控制所述第一光栅和或所述第二光栅的移动,使得在所述第一光栅和或所述第二光栅正在移动时采集图像数据。针对所述第一操作模式,所述输出单元被配置为输出以下中的一项或多项:暗场图像数据、相位对比图像数据和衰减图像数据。
本发明授权用于X射线暗场、相位对比和衰减图像采集的系统在权利要求书中公布了:1.一种用于X射线暗场、相位对比和衰减图像采集的系统10,所述系统包括: X射线源20; 干涉仪装置30; X射线探测器40; 控制单元50;以及 输出单元60; 其中,定义从所述X射线源的中心延伸到所述X射线探测器的中心的轴; 其中,检查区域被定位于所述X射线源与所述X射线探测器之间,并且其中,所述轴延伸穿过所述检查区域,并且其中,所述检查区域被配置为使得能够定位要被检查的对象; 其中,所述干涉仪装置被定位于所述X射线源与所述X射线探测器之间,并且其中,所述干涉仪装置包括第一光栅32和第二光栅34; 其中,针对第一操作模式: 所述控制单元被配置为控制至少一个横向移动换能器70以在垂直于所述轴的横向位置方向上移动所述第一光栅或者移动所述第二光栅;并且 其中,所述控制单元被配置为控制所述X射线探测器以在所述第一光栅和或所述第二光栅正在移动时采集图像数据,其中,在所述X射线探测器的曝光时间期间,所述第一光栅和或所述第二光栅已经移动了小于所述第一光栅和或所述第二光栅的周期的距离,并且其中,所述控制单元被配置为控制所述第一光栅和或所述第二光栅的移动,使得在所述第一光栅和或所述第二光栅正在移动时采集所述图像数据;并且 其中,针对所述第一操作模式,所述输出单元被配置为输出以下中的一项或多项:暗场图像数据、相位对比图像数据和衰减图像数据; 其中,针对第二操作模式: 所述控制单元被配置为控制所述X射线探测器以在所述第一光栅和或所述第二光栅正在移动时采集图像数据,其中,在所述X射线探测器的曝光时间期间,所述第一光栅和或所述第二光栅已经移动了大于或等于所述第一光栅和或所述第二光栅的所述周期的距离;并且 其中,针对所述第二操作模式,所述输出单元被配置为输出衰减图像数据和或校准数据。
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